中古 TEL / TOKYO ELECTRON TE 8500 PATC #73160 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON TE 8500 PATC
ID: 73160
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1996
Etcher, 8" Process: oxide 1996 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON TE 8500 PATCは、アルミニウムガリウムヒ素(AlGaAs)などの化合物半導体材料のオンサイト生成用に設計されたエッチャー/アッシャー機です。このマシンは、カスタム半導体デバイスを作成するために使用される高性能TEL 8500エッチング/アッシュ処理を備えています。TEL TE 8500 PATCは、東京エレクトロン8500のエッチング/アッシング工程と複数の半導体プリトリートメント部品を内蔵したベースユニットで構成されています。本質的にベースユニットには、真空チャンバー、機械ステージ、センサー制御、データ収集システムが含まれています。ベースユニットはまた、真空ポンプ、トランスファーロッド、TEL/TOKYO ELECTRON 8500エッチング/アッシングツール自体など、いくつかの外部プリトリートメント部品に接続します。TOKYO ELECTRON TE 8500 PATCの真空チャンバー部分は、二次etching/ash­ingガスを使用したリーク耐性のあるエッチング/アス加工が可能です。このデュアルガス法は、基板からの排ガスを最小限に抑えた反応性ガス大気に基板を露出させるため、エッチング/アッシング処理が繰り返され、一般的に欠陥のない基板が生成されます。TE 8500 PATCに内蔵された機械的ステージにより、基板表面から不要な材料を正確に除去できます。ステージは複数のコンピュータ制御アクチュエータとセンサーに結合されており、正確な自動処理とエッチング/アッシングが可能です。さらに、エッチング/アッシング工程中に機械ステージの位置を容易に監視および調整し、精度と効率を確保することができます。TEL/TOKYO ELECTRON TE 8500 PATCシステムのセンサ制御装置は、プロセスコントローラにフィードバックすることにより、エッチング/アッシングプロセスの精度を監視および再確立するために使用されます。このフィードバックは、エッチング/アッシングの均一性の低下やエッチング/アッシング速度の変動など、存在する可能性のある異常条件を特定するために使用できます。このユニットは、予期しない条件によるエッチング/アッシング障害の可能性を最小限に抑えるのにも役立ちます。TEL TE 8500 PATCのデータ収集機は、基板温度、ガス流量、圧力など、エッチング/アッシング工程の各種プロセスパラメータを記録し表示するために使用されます。このデータは保存され、エッチング/アッシングプロセスを分析し、エッチング/アッシングプロセスの品質を最適化するためにパラメータを調整するために使用できます。TOKYO ELECTRON TE 8500 PATCは、化合物半導体のカスタム生成のための非常に高度なオンサイトエッチング/アッシングツールです。真空チャンバー、メカニカルステージ、センサ制御資産、データ収集モデルを組み込むことにより、安全な作業環境とエッチング/アッシングの精度を維持しながら、効率的なエッチング/アッシングプロセスを提供します。
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