中古 TEL / TOKYO ELECTRON TE 8401 #9161274 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON TE 8401は、マイクロエレクトロニクス製造における複数の半導体プロセスに使用されるプラズマエッチング手法です。エッチャーは、複合材料上の困難なアプリケーションのための精密ドライエッチング用に設計された高度なツールです。自動化された制御インターフェースと使いやすいプロセス制御装置により、信頼性の高いエッチング処理が可能です。TEL TE 8401の独自の自己調整電源技術により、高いスループットと優れた再現性で正確な高速エッチングを実現します。エッチャーには、効果的なプロセス制御を維持するための高度な高速ロードロックが装備されており、摩耗を最小限に抑えます。高速搬送ウエハ操作ユニットは、ロードロックとプロセスチャンバー間の高速でスムーズなウエハ移動を実現するよう設計されています。TOKYO ELECTRON TE-8401の先進的なプラズマソースは、エッチングの深さ、プロファイル、材料除去率、および機能minutiaeを独立して制御し、過剰エッチングを防ぎます。幅広いエッチング機能を持ち、様々な誘電体やポリシリコン材料、銅層、絶縁体をエッチングすることができます。この高性能ツールは、非常にクリーンなエッチング面と超高解像度の設計を高速かつ最小限のプロセス副生成物で提供できます。TOKYO ELECTRON TE 8401は、最大16個のエッチングプロセスを管理するための制御システムと通信プロトコルを内蔵しています。マルチプロファイルエッチング機能を備えており、深さと時間の両方のエッチングが可能で、手動で介入することなく最高の精度で実行できます。また、内蔵の診断ユニットを備えており、一貫したエッチング性能を確保し、潜在的なハードウェア障害を監視し、ダウンタイムを最小限に抑えます。TEL TE-8401エッチャーには、作動中の圧力蓄積を防ぐための圧力インターロックや、チャンバーが少なくともわずかに加圧されていることを確認するための不活性ガスフローモニターなど、さまざまな安全機能があります。エッチャーの制御機は、適切な冷却資産が整って準備が整うまでツールが起動しないことも保証します。