中古 TEL / TOKYO ELECTRON TE 580LC #293819191 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON TE 580LCは、応用実験、分析実験、生産に最適化されたエッチャー/アッシャーです。基板ステージが大きく、工具を追加することなくサンプルの積み下ろしを可能にし、ガス回路の設計を高度に改善し、高効率な真空システムを実現しています。このエッチャー/アッシャーは、コンピュータ制御速度が0〜200Hzで、基板エッチング処理を簡単かつ正確に制御できます。また、基板バイアス電圧は0〜-200Vまで調整可能で、エッチング深度や均一性の制御が可能です。パラメータ入力が簡単にできるユニークなインターフェースを備えており、ユーザーフレンドリーなエッチャーとなっています。プロセス制御のために、TEL TE 580LCは高精度のin-situエンドポイント検出と多種多様なレシピ設定を使用しています。これらの設定は簡単にプログラム可能であり、エンドポイント検出により一貫した結果が得られます。優れたサイドウォールプロファイルコントロールと均一なエッチングにより、プロセスの再現性と再現性が確保され、高速モードは高速エッチング性能を提供します。その余分大きい300mm x 400mmの基質の皿はいろいろサンプルサイズを収容でき、デジタル5ステップ調節可能なガスの流量計は正確で、信頼できるガスの導入を可能にします。TOKYO ELECTRON TE 580LCは、耐食性とメンテナンス性に優れた耐薬品性ステンレスチャンバーを備えています。このエッチャー/アッシャーには、デュアル周波数RFジェネレータも備えており、最大500Wまでの可変電力範囲で利用可能な電力をより多く選択できます。最後に、処理中の粒子汚染を防ぐためのin-situクリーニングシステムを装備し、エッチング処理がクリーンで安定した状態を維持します。TE 580LCは、幅広い基板に最適なエッチング性能を提供するよう設計されています。このエッチャー/アッシャーは、精密なエンドポイント検出、調整可能な処理速度、および調整可能なガス流量などの多数の性能機能を備えているため、実験や生産に最適です。超大型の基板サイズにより、様々なサンプルを加工することができ、耐薬品性に優れたステンレス製のチャンバーは、さまざまな気候で信頼性の高い性能を保証します。