中古 TEL / TOKYO ELECTRON TE 5000S #9091958 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON TE 5000Sは、半導体製造向けに設計された先進エッチング機です。このモデルは、最大3〜4のエッチング方程式のために設計された真空チャンバーを備えたシングルチャンバー垂直エッチャーです。このエッチツールは、幅広いウエハサイズや構成に合わせて調整できるプロセスパラメータを使用し、あらゆる半導体材料の高品質エッチングを可能にします。TEL TE 5000Sは2つのメインチャンバーを利用しています。下部のチャンバーはエッチングチャンバーで、基板シャトル、チューブヒーター、ホルダーなどのエッチングハードウェアと、反応やガス供給システムなどのプロセス機器が収納されています。上部チャンバーは、処理中にウェーハが配置されている場所です。ここでは、真空およびマイクロ波周波数プラテンを使用して、処理前にウェーハを加熱し、ウェーハを切断およびシートのエッチングをサポートします。TOKYO ELECTRON TE 5000 Sは、従来のディープエッチング、パターンエッチング、選択可能なエッチングなど、幅広い加工能力を備えています。シリコンやヒ素ガリウムなどのアモルファスや多結晶の半導体材料をエッチングすることができます。TE 5000Sは、現場での化学、熱処理、電気処理を通じて、電子デバイスや半導体材料の製造のためのさまざまなプロセスレシピを提供しています。TEL/TOKYO ELECTRON TE 5000 Sには、エッチングプロセスのステップを最初にシミュレートする真空とモーションを模倣したマルチステップモーションコントロールシステムが搭載されています。これにより、エッチング処理を調整・最適化し、エッチング性能を最大限に引き出すことができます。また、TOKYO ELECTRON TE 5000Sは、異なるプロセスで必要に応じて、特定のレイヤー構成や構造をエッチングするようにプログラムすることができます。TE 5000 Sは、エッチング処理に必要なプラズマエネルギーを生成するために、高出力のRFソースで動作します。このソースは、エッチング処理のエッチング速度と深さの両方を制御するために使用されます。さらに、TEL TE 5000 Sは、マッピング機能やプロファイリング機能、反応源の最適化、エッチング結果を改善するガス化学制御など、さまざまな機能を提供します。結論として、TEL/TOKYO ELECTRON TE 5000Sは、さまざまなプロセス機能と機能を提供する最先端の垂直エッチングシステムです。TEL TE 5000Sは、幅広いエッチングレシピと加工機能を備えた半導体デバイス製造用の汎用ツールで、高品質なエッチング結果を提供します。