中古 TEL / TOKYO ELECTRON TE 5000 #9192931 を販売中
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ID: 9192931
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 1991
Plasma etcher, 6"
Process: Oxide
Vacuum type
Gauge:
MKS 622A02RAE Pressure gauge
VACUUM GEMERAI CMLA-21 Pressure gauge
(2) GRANVILLE PHILLIPS 275071 Convection gauges
Sub module:
EDWARDS CDP80 Dry pump
EDWARDS DP80 Dry pump
SEIKO SEIKI MG-STPH600C-T21/60 TMP
SMC INR-341-60A-X15 Chiller
TEL / TOKYO ELECTRON Chiller Trans OEM
Valve:
VEXTA PH265-02 APC
(3) KURODA C-2-50-60-R3 Gates
Gas flow control:
STEC SEC-4400RC 100 SCCM MFC (CHF4)
STEC SEC-4400MC-302 100 SCCM MFC (CF4)
STEC SEC-4400MC-302 1 SLM MFC (Ar)
STEC SEC-4400MC-302 1 SLM MFC (He)
STEC SEC-4400M 50 SCCM MFC (N2)
RF Unit:
DAIHEN MFG-20SA3A Generator
DAIHEN MFG-20SA3 RF Controller
ASTECH ATL-100 Matcher
JOBIN YVON H-10 VIS EPD
TEL GAP
Power supply: 208-230 VAC, 50/60 Hz, 40 A, 3 Phase
1991 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON TE 5000は、半導体製造プロセスで使用されるエッチャーまたはアッシャーです。シリコン基板上のエッチングプロセスの生産時間を短縮し、整理するために設計された自動化された機械です。装置は精密なプロセス正確さ、繊維光通信および急速なデータ移動のために明示されます。TEL TE5000は柔軟性のために設計されています。基板の容易・安全・精密な積み下ろしを可能にする高剛性フレームを搭載しています。それにプロセス部屋の堅さを保障する作り付けの真空システムに加えて腐食抵抗力があり、気密操作部屋があります。TOKYO ELECTRON TE-5000には、基板を適切な処理位置に正確に転送するようにプログラム可能な自動ウェーハ/基板ホルダーが装備されています。これにより、プロセス全体の実行中に正確なエッチングが保証されます。また、TEL/TOKYO ELECTRON TE5000には全自動マッチアップステーションが装備されており、チャンバー内の基板や環境の自動設定が可能です。エッチングユニット全体を駆動できる高性能モータで駆動します。モータは、必要なプロセスに応じて自動的に電力レベルを監視および調整する3レベル電源ユニットなどの高度な制御システムを備えており、正確なエッチング結果を保証します。さらに、高精度なモーションコントロールシステムは、プロセスの速度と加速度を調整して、非常に正確な結果を得ることができます。このマシンはまた、プロセス開始前にエッチング条件を確認できるディスプレイマシンを使用してフォルトチェック機能を提供します。これは、機械が矛盾なく正しく動作していることを保証するために不可欠です。効率的で信頼性の高いプロセスを実現するため、TEL TE 5000には様々な機能が搭載されています。例えば、高精度のフリップスタッカーを使用して、歪みのない基板を最大400mmまで上げ下げします。さらに、加工中の基板や真空システムの動きを模した中央搬送も装備しています。結論として、TEL TE-5000は、さまざまな半導体アプリケーション向けの強力で信頼性の高いエッチングソリューションをユーザーに提供します。内蔵のオートメーションおよび監視機能により、プロセスの精度が向上し、毎回一貫した結果が得られます。
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