中古 TEL / TOKYO ELECTRON Tactras Vigus #293818565 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vigusは、蒸着、スパッタコート、CVD、リフトオフ、平面化、およびパターン化などのさまざまなプロセスに使用されるエッチャーまたはアッシャーです。このツールは、イオン埋め込み技術を使用して、高精度で最大55 nmの厚い層の材料を堆積させます。基板上のエッチトポグラフィの均一性を提供し、化学蒸着（CVD）の実行にも使用できます。エッチング処理はイオン注入とスパッタコート、CVDプロセスは基板にガス相の成分を導入することによって行われます。TEL Tactras Vigusエッチャーには、カソード、基板ホルダー、RFマイクロ波、基板冷却システム、ガス注入機構など、さまざまな先進的なコンポーネントが装備されています。カソードはシリコンをエッチングするために使用される放電を生成し、基板ホルダーは直径8インチまでの基板を保持することができます。1。8〜38。5GHzの周波数範囲を持つ高出力RFマイクロ波を使用して、エッチング処理用の高温および強電圧プラズマを作成します。基板冷却システムは、基板の温度を5〜40°Cの範囲に保ち、堆積およびエッチングプロセスが安全に実行されることを確認します。最後に、ガスインジェクション機構を使用して、エッチング速度、圧力、化学組成、ガス流量を制御します。TOKYO ELECTRON Tactras Vigus Etcherの主な利点の1つは、グラファイトやスピノダル合金などの多孔質面でも55nmまで正確にエッチングできることです。さらに、このツールは既存の機器に簡単に組み込むことができ、クリーンルームまたはオープンエアのいずれかの条件で操作することができます。また、高速回転・高速低圧エッチング装置により、エッチング処理を迅速かつ正確に行うことができます。その結果、Tactras Vigusエッチャーは、生産、研究、開発など、幅広い用途に適しています。