中古 TEL / TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3 #293634269 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3は、様々なマイクロストラクチャーにおけるパターン移動や材料除去用に設計された最先端のエッチャー/アッシャーです。高度な半導体加工と集積回路生産のための効率的なツールです。加工面積が約300mmの大型プロセスチャンバーを備えており、製造品質を大幅に劣化させることなく、高いエッチング選択性と優れた均一性をプロセス全体に提供することができます。TEL Tactras Vesta NV3は、高性能プラズマ源とガス供給システムにより、精密エッチングとアッシングの業界トップクラスの基準を設定しています。静電気閉じ込めシステムは、反応性ガスの組成とイオン化を制御し、最適なエッチング率を実現し、粒子をサスペンションに保ちます。また、イオン化パワーを高め、エッチング選択性を向上させるための一連のターンを備えたユニークなソース設計を備えています。そのパフォーマンスに加えて、東京エレクトロンタクトラスベスタNV3は、革新的なユーザーフレンドリーな機能で競争から離れています。人間工学に基づいたコントロールパネルは、エッチングとアッシングのプロセスパラメータを簡単かつ直感的にプログラミングできます。直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスを備えており、ユーザーはプロセスの状態を直接視覚化し、プロセスの最適化を容易にすることができます。さらに、そのデジタルコントローラは、より正確な制御とより信頼性の高いプロセス操作を提供します。コスト効率の面では、Tactras Vesta NV3は非常に手頃な価格のエッチャー/アッシャーです。また、高い信頼性と迅速なメンテナンスにより、所有コストも低くなっています。これは、動作中の低消費電力と他のシステムとの効率的な通信リンクによってさらに助けられ、ユーザーはプロセスに関する最新の情報をすばやく取得できます。TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3は、性能、使い勝手、低コストを兼ね備えた先進的な半導体加工と集積回路生産に最適です。優れたエッチング、アッシング、および作業領域全体の均一性により、業界で最も要求の厳しいニーズを確実に満たします。