中古 TEL / TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3 #293603576 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3は、幅広い用途に使用される信頼性が高く、効率的で正確なプラズマエッチャー/アッシャーです。TEL Tactras Vesta NV3は、高温、高電場、高エネルギーイオンを使用した「プラズマ強化エッチング」技術を使用して動作します。このエッチング法により、精密なパターンを正確にエッチングするだけでなく、幅広いディープエッチング/アッシングを可能にします。TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3のインターフェースは使いやすく、エッチングパラメータを正確かつ簡単に制御できます。また、直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスを備えており、生産サイクル時間を短縮し、生産性を向上させます。エッチャー/アッシャーは、200mmから300mmまでの複数の基板サイズをサポートしているため、汎用性が高く、さまざまな半導体生産プロセスに最適です。NV3はまた不均一な加熱を減らし、均一なエッチングを助ける高度の炉モジュールを特色にします。また、エッチング工程に伴うコストを削減し、ガス消費量の削減を特徴とするポンプシステムを搭載しています。NV3にはSEGARD （Super Etching Gas Analysis Data Recording）を搭載しており、エッチング面のガス分布を正確に記録することができます。これは、エッチングパターンの精度を向上させ、エッチングプロセスの均一性を確認するのに役立ちます。NV3によって提供される特徴のいくつかは自動基質の温度調整、自動出口の温度調整および自動トレンチの形成を含んでいます。これらの特徴は、基板温度を一定に保つだけでなく、プロセスの均一性を向上させるのに役立ちます。このNV3は、最大10個のウェーハを同時にエッチングすることも可能で、生産性とスループットを大幅に向上させます。結論として、Tactras Vesta NV3プラズマエッチャー/アッシャーは、さまざまな生産プロセスで使用される高精度で信頼性の高いエッチャー/アッシャーです。このような機能により、幅広い基板サイズで均一なエッチング、高速なスループット、優れた均一性を実現します。