中古 TEL / TOKYO ELECTRON / NEXX Tornado 300 #9298719 を販売中

ID: 9298719
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2013
Etcher, 12" 2013 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Tornado 300は、半導体ウェーハの製造において、精密で高性能なアプリケーション用に設計された先進的なエッチャー/アッシャーです。TELトルネード300装置は、高速と高いスループットと最高品質を兼ね備えたハイスループットエッチングシステムです。NEXXトルネード300は、最先端の機能を形成するために制御された環境で高い電力密度を提供できるプロセスチャンバーを採用しています。プロセスチャンバーは、オールセラミック材料を使用して構築されており、高度な複数のガス供給ユニットは、高速、統合されたプレナムと高精度の不活性ガス導入アセンブリの最新の機能を備えています。TOKYO ELECTRON Tornado 300の先進的な半導体プロセス制御機は、幅広いエッチング工程にわたって迅速な性能を発揮します。エッチングチャンバーは非常に効率的で、印象的なサイクルタイムは15秒です。このサイクルタイムは、ウェーハ間のバリエーションを減らし、迅速なサイクルタイムを通じて優れたオンタイム生産を提供します。このエッチングツールは、革新的なRF電源とプロセスコントローラも備えています。RF電源は安定したプロセスフローを保証し、優れた均一性と制御可能な電力レベルを提供します。RFコントローラは、高精度のサイクルタイム制御を可能にする精密なプロセス制御パラメータを提供します。アセットには高度なプログラマブルプロセスコントローラがあり、調整可能な温度、圧力、プロセスパラメータなどの正確で柔軟なプログラミング機能を提供します。このモデルは、高精度のプロセス制御パラメータのために簡単にプログラムすることもできます。マルチオシレータモードを同時に使用することで、ウェーハ表面全体の均一性を維持できます。トルネード300は、メンテナンスを最小限に抑えて優れた性能を発揮し、高度なガス供給装置は、エッチング作業中に最大の効率と均一性を得るためにガスの流れを最適化します。高度なガス供給は、幅広いガスをサポートし、様々なプロセスに簡単に適応することができます。このシステムは、顧客のニーズを満たすために、乾式と湿式の両方のエッチング方法を使用します。TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Tornado 300は、ウェーハの歩留まり、処理時間、プロセス性能を向上させる信頼性の高い強力なエッチャー/アッシャーソリューションです。このユニットは、さまざまなエッチングおよびアッシング要件に対応しており、半導体業界にとって理想的な選択肢となっています。
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