中古 TEL / TOKYO ELECTRON MB2-730 #9398831 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON MB2-730
ID: 9398831
ウェーハサイズ: 8"
CVD System, 8".
TEL/TOKYO ELECTRON MB2-730は、プラズマ強化化学蒸着(PECVD)用途に特化した先進エッチャーです。エッチング工程で使用されるフッ素及び硫黄前駆体を精密に制御する作業に最適です。装置には、ガスボックス、互いに接続された2つの石英チャンバー、およびロードロックチャンバーが含まれています。また、ウェハトランスファー付きロードロックと高真空ポンピングパッケージを備えており、6mTorr以下のベースプレッシャーを実現しています。TEL MB2-730は、高効率、低ノイズのプラズマママルチチャネル構成を特徴とするTEL独自のAdvanced Plasma Source (APS)を搭載しています。このシステムは、高品質の製品をもたらす、精密な堆積パラメータを正確に制御することができます。また、再現性と均一なエッチング処理のために設計されています。シリコンウェーハ、薄膜、アモルファスガラスなどの各種基板エッチングが可能です。東京電子MB2-730では、ガス混合ボックス、混合チャンバー、高流量ターボポンプパッケージを含むハイブリッドガスコントロールユニットを採用しています。この構成により、エッチングガスの正確な組成を柔軟に定義でき、エッチングプロセスを正確に調整できます。また、Quartz Crystal Monitor (QCM)も搭載しており、蒸着プロセスを正確に制御できます。MB2-730は信頼できる、長期性能のために設計されています。このツールは自己診断機能を備えており、メンテナンスの潜在的なニーズを予測するだけでなく、メンテナンス時間と労力を削減するための自動クリーニングサイクルを提供します。さらに、この資産には、オペレータの安全を確保するために、過圧警報や温度制限などの安全機能が含まれています。結論として、TEL/TOKYO ELECTRON MB2-730は、PECVDプロセスで使用されるフッ素及び硫黄前駆体の精密な制御を必要とする操作に最適な高度なエッチャーです。TOKYO ELECTRON独自のAdvanced Plasma Source (APS)とハイブリッドガス制御モデルを搭載し、ニーズに応じてエッチング工程を正確に調整する柔軟性を提供します。TEL MB2-730には、過圧警報や温度制限などの安全機能や自己診断機器も含まれており、エッチング用途において信頼性が高く安全なオプションとなっています。
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