中古 TEL / TOKYO ELECTRON MB2-730 HT-HT #293734292 を販売中
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ID: 293734292
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1996
CVD System, 8"
(3) Chambers
WSi Process
1996 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MB2-730 HT-HTは、高度な半導体製造プロセス向けに設計された高性能エッチャー/アッシャー装置です。この最先端の装置は、プラズマ処理パラメータを正確に制御して均一で再現性のある結果を得ることができ、大量生産環境に最適です。TEL MB2-730 HT-HTは、プラズマエッチング用のプロセスチャンバーとレジストストリッピング用のアッシングチャンバーを備えたデュアルチャンバー構成です。この汎用性の高い設計により、ユーザーは複数のツールを必要とせずにさまざまなプロセスを実行し、効率を向上させ、生産コストを削減できます。TOKYO ELECTRON MB2-730 HT-HTの特徴は、350°Cまでの高温処理が可能な高温処理能力です。この機能は、プロセスの最適な性能を達成するために高温を必要とする特定のアプリケーションにとって不可欠です。プロセスチャンバー内の温度を制御する機能により、ユーザーは特定の要件に合わせて熱環境をカスタマイズできます。HT-HTは高温処理に加えて、精密かつ均一MB2-730処理を行うための先進的なプラズマ生成技術を提供します。このシステムは、ウェーハ表面に安定で均一なプラズマを供給する高密度プラズマ源を備えており、ウェーハからウェーハまで一貫したプロセス結果を保証します。TEL/TOKYO ELECTRON MB2-730 HT-HTは、様々な用途に対応するため、さまざまなプロセスガスや化学オプションを備えています。フッ素系や酸素系化学系などの包括的なプロセスガスのリストから選択し、エッチング/アッシングプロセスを特定のニーズに合わせて調整することができます。さらに、ガス流量と混合物の精密な調節のための高度なガス流量制御技術を搭載し、ユーザーは最大の性能のためにプロセス条件を最適化することができます。TEL MB2-730 HT-HTは、プロセス制御と再現性をさらに向上させるため、高度な監視・制御システムを搭載しています。リアルタイムプロセスモニタリングツールを使用すると、温度、圧力、プラズマ特性などの主要なプロセスパラメータをリアルタイムで観察でき、プロセスのパフォーマンスを最適化するために迅速な調整が可能になります。また、洗練されたレシピ管理機能を備えており、ユーザーは一貫した結果を得るためにプロセスレシピを保存してリコールすることができます。半導体製造装置においては、メンテナンスと保守性が重要な考慮事項であり、東京エレクトロンMB2-730 HT-HTはこれらを念頭に設計されています。このツールはモジュラー設計を採用しているため、重要なコンポーネントに簡単にアクセスでき、メンテナンスを簡素化し、ダウンタイムを削減できます。さらに、TELは、HT-HTアセットのユーザーに最大限の稼働時間と生産性を確保するための包括的なサービスとサポートプログラムMB2-730提供しています。結論として、TEL/TOKYO ELECTRON MB2-730 HT-HTは、精密な制御、高度なプラズマ技術、および幅広い半導体製造用途の高温機能を提供する高性能エッチャー/アッシャーモデルです。TEL MB2-730 HT-HTは、汎用性の高い設計、優れたプロセス制御、堅牢な保守性を備え、高品質で信頼性の高いプラズマ処理ソリューションを求める半導体メーカーにとって理想的な選択肢です。
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