中古 TEL / TOKYO ELECTRON Mainframe for TELIUS #293743781 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON TELIUSのメインフレームは、先進的な半導体製造プロセス向けに設計された最先端の高性能エッチャーおよびアッシャー装置です。この革新的なツールは、精度、効率、信頼性を兼ね備えており、複雑な集積回路の製造のための大手半導体メーカーの厳しい要件を満たしています。TEL Mainframe for TELIUSは、精密で均一なエッチングとアッシングのプロセスを可能にするために、高度な技術と材料を組み込んだ最先端の設計を特徴としています。このシステムのメインフレームは、耐久性、安定性、耐薬品性を保証する高品質の材料を使用して構築されており、クリーンルーム環境での使用に最適です。TELIUSユニットのメインフレームには、高精度エッチングとアッシングの結果を達成するために不可欠なさまざまな主要コンポーネントがあります。これらのコンポーネントには、高出力RFプラズマ源、ガス供給機、ウェハハンドリング機構、プロセスモニタリングセンサー、高度な制御ソフトウェアが含まれます。RFプラズマ源は非常に反応性の高いプラズマを生成し、ウェーハの表面を極めて精密にエッチングまたはクリーニングするために使用されます。ガスデリバリーツールは、さまざまなエッチングおよびアッシング用途にさまざまなプロセスガスを供給し、さまざまな種類の材料を処理する際の柔軟性と汎用性を確保します。TELIUSアセットのウェハハンドリングメカニズムは、幅広いウェハサイズと形状に対応するように設計されており、単一のウェハの効率的な処理や複数のウェハのバッチ処理が可能です。このモデルは、高度なロボティクスとオートメーション機能を備えており、エッチングとアッシングプロセス全体で正確なウェーハの位置決めと動きを保証します。この自動処理装置は、ウェーハの損傷や汚染のリスクを最小限に抑え、高いプロセス歩留まりと一貫性を実現します。TOKYO ELECTRON Mainframe for TELIUSは、温度、圧力、ガス流量、プラズマ特性などのプロセスパラメータをリアルタイムでフィードバックする、包括的なプロセスモニタリングセンサを搭載しています。このリアルタイムモニタリングにより、オペレータはプロセス条件を最適化し、最適なプロセス性能と製品品質を確保するためにリアルタイムで調整することができます。システムの高度な制御ソフトウェアは、プロセスレシピの設定、プロセスパラメータの監視、プロセスデータのリアルタイム分析を行うためのユーザーフレンドリーなインターフェイスを提供します。TELIUSユニットは、高度な処理能力に加えて、運転中のオペレータと環境を保護する革新的な安全機能も備えています。安全インターロック、ガス漏れ検知システム、緊急停止手順を備えており、事故を防止し、常に安全な動作を保証します。全体として、TELIUSのメインフレームは、半導体製造アプリケーションにおいて比類のない性能、精度、信頼性を提供する最先端のエッチャーおよびアッシャーツールです。TELIUSアセットは、高度な技術、堅牢な設計、包括的な安全機能を備えており、高度な半導体デバイスの高品質で高収率の生産を実現するために半導体メーカーにとって不可欠なツールです。