中古 TEL / TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M #293763486 を販売中
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ID: 293763486
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2016
Vertical furnace, 12"
Process: Pyro
Air valve: CKD
VOS-56-101PT Heater
Process chamber
MFC, MFM: AERA
MAIN / APC: CKD
Gases: HCL, H2, O2, N2
Load lock system
Storage
4-Color signal tower
Carrier transfer
Load port: Side FFU
FIMS Port
Wafer transfer
Boat elevator
Auto shutter
Manufold scavenger
(2) Boat transfers
Boat stage
Manifold
Utility box:
WAVES Controller
GFC Display
Operation panel
Data I/O
Hardware switch
Gas unit
Cooling unit
APC controller
Temperature controller
Vacuum line
Power box:
EMO Unit
Control board
Hardware switch
Transformer
SCR Unit with controller
N2 Purge unit
RF Power
Rapid cooling unit
Pump box
Gas subsystem:
Gas supply unit
Exhaust
Vacuum line
Operating system: Linux
Power supply: 120/480 V, 3 Phase, Single phase
2016 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B Mは、TEL Limited （TOKYO ELECTRON）が設計・製造するエッチャー/アッシャーです。エッチャー/アッシャーは、高度なデバイス製造の複雑な要件に対応する高度な機能を提供します。TEL INDY PLUS B-Mは、半導体デバイスの成長と性能を最適化するために設計された誘導結合プラズマ（ICP）エッチャー/アッシャーです。業界標準の高精度デバイスを製造するための精密で高性能なICPソースを備えています。ICPソースは、高いエッチング速度でも強烈で均一なエッチング処理を可能にします。エッチャー/アッシャーは、自動プラズマ発生器、プロセスチャンバー、チャンバートップ制御装置、真空システム、反応ガス供給ユニット、ポンプおよびコントローラ部品を備えています。真空機には、性能と信頼性を向上させるデュアルポンプ構成と、真空品質を最適化するガス拡散バリアと真空センサーが装備されています。反応ガス供給ツールにより、エッチング条件を正確に制御し、精密なエッチング動作を実現します。プロセスチャンバーは、反応性ガスを正確に導入するために複数の入口ポートをサポートし、プロセスの均一性を向上させるための可変的な非均一補償機能を備えています。チャンバートップには、プラズマ暴露時の安全性を高める3レベル自動シャットオフバルブが装備されています。東京エレクトロンINDY PLUS-B-Mには、ウェーハバッチローディング、冷却、脱気、レイヤートランスファー、エンドポイント制御（EPC）など、幅広い高度なプロセスオプションが用意されています。EPC機能により、プロセスエンドポイントを正確に制御でき、デバイスエンジニアはデバイスのパフォーマンスを最適化できます。ウェーハバッチローディングアセットは、最大4つのウェーハをサポートし、高スループットプロセスを可能にします。TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B-Mエッチャー/アッシャーは、先進的な半導体デバイス製造のための優れたツールです。これは、信頼性の高い精密なエッチング性能と、最適化されたデバイス製造のための高度なプロセス機能を提供します。
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