中古 TEL / TOKYO ELECTRON Indy-I-L #9394512 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON Indy-I-L
ID: 9394512
ウェーハサイズ: 12"
Furnace, 12" LT ALD SiN.
TEL/TOKYO ELECTRON Indy-I-Lは、半導体基板の加工用に設計されたエッチャー/アッシャーです。エッチング、成膜、表面処理において高性能を提供します。TEL Indy-I-Lは柔軟なツールで、ユーザーはさまざまなレシピや生産モードから要件を満たすことができます。東京エレクトロンIndy-I-Lには、ICP (Hi-ratio Inductive Copling Plasma)を搭載したプラズマ源があります。このソースは、非常に高いアスペクト比の構造でも、高いエッチング率と均一性を提供します。このツールはまた、優れた性能のためにデュアルトランスデューサとアンチバイブレーションシステム(AV®)設計を備えています。チャンバーには、サイクル時間を短縮するための高速加熱および冷却のための効率的な熱交換器も装備されています。Indy-I-Lは直感的な操作パネルを備えており、ユニットを使いやすくしています。ユーザーは、パスワードで保護されたアクセスを使用して、ソフトウェア内のエッチパラメータを設定できます。これにより、プロセスが簡素化され、エッチングレシピを安全に保存できます。このソフトウェアには、レシピ開発を支援する内蔵のデータベースとドキュメントも含まれています。TEL/TOKYO ELECTRON INDY-I-Lは、高密度プラズマ(HDPET)、酸素(O2)、六フッ化硫黄(SF6)、テトラフルオロメタン(CF4)などのエッチング化学物質を幅広くサポートしています。このツールは、窒素(N2)、水素(H2)、アルゴン(Ar)などのさまざまな反応性ガスもサポートしています。TEL Indy-I-Lはエッチングの均一性も高く、微細な形状やクリティカルパターニングプロセスを可能にします。成膜には、ダイレクトメッキ技術(DIP)を採用し、高精度・高均一・薄膜成膜が可能です。また、IADや低圧化学蒸着(LPCVD)も可能です。Indy-I-Lには、ウェーハを安全かつ迅速に転送するための高度なウェーハ転送システム(WTS)も装備されています。この効率的なウエハハンドリングシステムにより、搬送時の損傷や汚染を防ぎます。TEL/TOKYO ELECTRON Indy-I-Lは、半導体基板の加工において安定性、精度、再現性を提供します。幅広いエッチング・成膜技術、ウエハハンドリングシステムをサポートする効率的で信頼性の高いツールです。複雑な半導体基板の加工要件に最適です。
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