中古 TEL / TOKYO ELECTRON HT-800-P4 #9285738 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON HT-800-P4
ID: 9285738
Dry etchers Substrate size: 680 mm x 880 mm.
TEL/TOKYO ELECTRON HT-800-P4は、半導体デバイス製造業界向けに設計されたハイエンドエッチングおよびアッシング半導体加工装置です。TEL HT-800-P4は、高度なデジタルコントロールを活用し、世界トップクラスの精度と精度を提供するように設計されています。このシステムは「、ホットエンド」と「コールドエンド」ポンプをベースにした真空技術を使用しており、正確さを損なうことなく、迅速かつ簡単なプロセス変更を可能にします。「ホットエンド」ポンプは、1サイクルで最大4X 4インチ基板のエッチングとアッシングを微調整できます。また、TOKYO ELECTRON HT-800-P4は独自の酸素ドーピング技術を採用し、高精度制御を実現しています。ユニットのハードウェア制御プラットフォームには、再現性と正確な処理のための自己締め付けチャック機構も含まれています。自己きつく締まるチャックは生産の適用のために特に必要である信頼でき、反復可能な結果を保障します。HT-800-P4は非常に汎用性が高く、さまざまな基板サイズ、材料、プロセスに構成することができます。これは、シリコン、ガラス、プラスチック、金属を含む20までの異なる材料をエッチングし、アッシングすることができます。さらに、マシンは12インチのサイズまでの基板を収容することができます。TEL/TOKYO ELECTRON HT-800-P4は、一貫した加熱と冷却を実現するマルチゾーンサンプルプレートを搭載しています。プレートには6つの温度ゾーンがあり、各ゾーンには独立した温度制御機能があります。その機能の結果、TEL HT-800-P4はレシピを再現し、バッチ・ツー・バッチの一貫性を提供することができます。さらに、多言語制御を備えており、エンジニアは処理レシピを迅速かつ正確にプログラミングできます。これにより、エッチングおよびアッシングプロセスの最大限の一貫性と再現性が保証されます。TOKYO ELECTRON HT-800-P4は、幅広いプロセス能力を備え、先進的な半導体デバイスの製造に最適です。高い精度と再現性と使いやすさを兼ね備え、生産および開発アプリケーションに最適です。さらに、このツールの多目的な機能は、研究開発にも最適です。
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