中古 TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9250263 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Formula （TEL/TEF）は、集積回路の製造に使用される高度なエッチャー/アッシャーです。この特殊装置は、フォトリソグラフィープロセスの多層化の一環としてウェーハにパターンをエッチングするために使用され、高度な半導体デバイス製造において不可欠となっています。TELフォーミュラにはモジュラー設計が施されており、幅広いエッチング工程が可能です。これには、手動および自動化された基板処理、ウェハレベルのプラズマエッチング、サブミクロンパターニング解像度、およびウェハレベルのフォトコーティングが含まれます。スループットと精度を向上させる高度なエッチングプロセスは、非常に低いレベルのバリエーションで複雑なパターンを作成することができます。東京エレクトロンフォーミュラは、プラズマエッチング技術を使用してウェーハ表面にパターンを作成します。エッチング工程では、可変圧力と温度を持つ高度なプラズマ源がプラズマ環境を生成し、エッチングガスがチャンバー内に活性種を作り出してプラズマを形成します。次に、プラズマ環境を特定のエッチングガスと組み合わせて使用し、ウェーハから材料を除去して所望のパターンを形成します。フォーミュラは、電子ビームリソグラフィとマスクレスフォトリソグラフィも可能です。電子ビームリソグラフィは、電子ビームを利用して、ウェーハ表面にパターンを正確に描画します。マスクレスフォトリソグラフィは、高度なレーザーを使用して、従来のリソグラフィ技術よりもはるかに高い精度でパターンを素早くエッチングします。TEL/TOKYO ELECTRONフォーミュラは、高度なエッチング機能により容易に実現できる、非常に高い精度と再現性を提供します。さらに、モジュラー設計により、最新の半導体デバイスメーカーの進化するニーズに対応するために、TELフォーミュラを簡単に適応およびアップグレードすることができます。TOKYO ELECTRON Formulaは、集積回路の製造に使用される高度なエッチャー/アッシャーです。プラズマエッチング、電子ビームリソグラフィ、マスクレスフォトリソグラフィを組み合わせて、ウェーハ表面に非常に精密なパターンをエッチングします。モジュラー設計により、柔軟性とアップグレード性が可能になり、半導体メーカーのエッチングソリューションとなります。