中古 TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9250261 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON Formula
ID: 9250261
ウェーハサイズ: 12"
Nitride furnace, 12".
TEL/TOKYO ELECTRONフォーミュラエッチャー/アッシャーは、材料の薄膜を除去・堆積させ、複雑なパターンを作り出す最先端の半導体製造装置です。高効率で、各種基板へのパターンの堅牢かつ正確なエッチングが可能です。エッチャー/アッシャーは、化学的および物理的な技術の組み合わせを利用した高度なエッチングプロセスを使用しています。エッチングという用語は、パターンを基板に作成するプロセスを記述するために使用されます。TELフォーミュラエッチャー/アッシャーは、まずスピンコーティング技術を使用して、エッチングされる材料の薄膜を基板に堆積させます。この後、エッチャーは反応性イオンエッチング機能を利用し、電磁界を印加してイオン化された粒子が基板を爆撃する。これは、材料に精密なエッチングを可能にする地形を持つ基板を作成します。これに続いて、エッチマスクは、材料の薄い層を基板に選択的に蒸発させる、またはスパッタリングによって作成されます。この材料の層はエッチングの障壁として機能し、特定の領域だけをエッチングすることができますが、他の領域ではそのままです。エッチングプロセスに加えて、東京エレクトロンフォーミュラエッチャー/アッシャーにもソートシステムが含まれています。このシステムは、フォトレジスタセンサーを使用して基板の表面を検査し、エッチングの実施場所を決定します。これは、精度と精度だけでなく、速度と材料の使用量を最小限に抑えるのに役立ちます。フォーミュラエッチャー/アッシャーは、効率的で複雑な半導体製造装置です。この機械は、ソートシステムとフォトレジスタセンサーを組み合わせることで、高精度かつ高精度な材料除去法を生み出します。TEL/TOKYO ELECTRONフォーミュラエッチャー/アッシャーは、高効率かつ高精度なエッチングにより、半導体製造に信頼性と費用対効果の高いソリューションを提供します。
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