中古 TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9098194 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRONフォーミュラは、半導体製造の分野で使用される高度に洗練されたエッチャーとアッシャーです。成膜・エッチング工程用に設計されたシングルウエハシステムで、薄膜成膜、エッチング、化学機械研磨など、半導体製造のさまざまな工程に使用できます。このエッチャー/アッシャーのユニークな設計により、プロセス時間が短縮され、スループットが向上し、プロセスの均一性が向上します。TELフォーミュラでは、様々なプラズマ源を利用して材料をエッチングし、形状化しました。このエッチャー/アッシャーは、真空および高圧プロセスチャンバーの両方を備えています。真空チャンバーは、エッチング、薄膜蒸着、またはCMPプロセスを実行するために使用されます。高圧チャンバは、生産性の向上と基板との高品質インターフェースの実現に活用されています。TOKYO ELECTRONフォーミュラの革新的なデザインは、デュアル周波数RFジェネレータと、高出力と低出力をそれぞれ供給するショートパルス高周波RFジェネレータに基づいています。この設計の主な利点は、より高いエッチング速度とより良い表面均一性を可能にすることです。さらに、デュアル周波数ジェネレータにより、プロセス時間の短縮とプロセス制御の改善も可能になります。フォーミュラの高度な設計により、低温での使用も可能になり、材料の互換性が向上し、プロセスの柔軟性が向上します。この技術は、高度な材料と高性能フィルム成膜プロセスの使用と優れたエッチング選択性を可能にします。また、TEL/TOKYO ELECTRON Formulaは、エッチング性能を最適化し、プロセス制御を向上させるためのグローバルなインシデント周波数制御も備えています。TELフォーミュラの全体的なパフォーマンスは非常に印象的です。このエッチャー/アッシャーは、優れたプロセス再現性、高スループット、および優れたエッチング速度を提供するため、幅広い半導体製造プロセスにとって魅力的な選択肢となります。さらに、高度な設計により、処理時間の大幅な短縮とプロセス制御の改善が可能になり、製造者はより高い歩留まりと正確なプロセス制御を達成することができます。