中古 TEL / TOKYO ELECTRON Formula #293596097 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRONフォーミュラは、半導体業界のさまざまなデバイス製造プロセス向けに設計された革新的なエッチャー/アッシャーです。メインエッチャー/アッシャーチャンバー、真空ポンプ、システムコントローラーユニットで構成されています。TELフォーミュラエッチャー/アッシャーは、高周波荷重、電源、および高周波アンプを利用して、シリコン、ヒ素ガリウム、グラフェンなどの幅広い材料にエッチング/灰プロセスを作成および適用します。TOKYO ELECTRONフォーミュラのメインチャンバーは広々としており、より多くのスペースが自由にヘリウムイオン駆動チャンバーを出入りできます。さらに、システムコントローラユニットは、エッチング/灰レート、圧力、温度、およびその他のパラメータを含むプロセスパラメータを優れた制御できます。エッチング/灰プロセスは、エッチングまたは灰の基材に使用される高密度イオンプラズマを生成する吸着陽子または中性子を介して、フォーミュラ内で有効になります。このプラズマは、一連の磁場と無線周波数（RF）波を介して形成され、エッチング/灰室を一種のイオン爆撃にさらします。この衝撃は基板材料の分子を解離させ、ウェーハ全体に均一なエッチングまたは灰パターンを形成します。TEL/TOKYO ELECTRONフォーミュラは、優れたエッチング/灰レート、フレキシブルチャンバー処理、比較的リーズナブルなコストにより、さまざまな製造プロセスに最適なソリューションです。最大1000mm/minまでのエッチング/アッシュ基板が可能で、同様に最大500nm/minまでのエッチングが可能です。これにより、より正確で複雑な製造プロセスが可能になります。さらに、アウトガス樹脂、フォトレジスト、石英など、さまざまな材料の信頼性の高い取り扱いを提供します。最後に、TELフォーミュラエッチャー/アッシャーは競争力のある価格で、多くの半導体製造プロセスにおいて実行可能なソリューションとなります。TOKYO ELECTRONフォーミュラエッチャー/アッシャーは、様々な半導体製造プロセスにおいて信頼性の高い高性能デバイスです。精密で正確で再現性の高いエッチング/アッシュパターンを提供する最先端のコンポーネントとプロセスを備えています。これは、手頃な価格のタグと組み合わせて、多くのプロセスに最適です。