中古 TEL / TOKYO ELECTRON Formula #293596090 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Formula （TEL/TF）は、TEL/TOKYO ELECTRON（東京エレクトロン）が半導体産業におけるエッチングおよびアッシングプロセス用に開発したエッチャー/アッシャーです。同社独自の技術をベースに、幅広いデバイスに信頼性の高い効率的なエッチング/アッシングプロセスを提供しています。TEL/TFエッチャー/アッシャーは、精密アーキテクチャの安定したエッチング/アッシングを可能にする多くの先進技術を活用した真空ベースの機器です。フットプリントが小さく、さまざまなエッチング/アッシングプロセスに適しています。さらに、自動化されたプロセス制御システムと高度なモーションコントロールを備えており、基板全体にわたって均一なエッチング/アッシュパラメータを保証します。東京エレクトロン/TFエッチャー/アッシャーは、従来のRIEプロセスよりもエッチング構造を制御できるリアクティブイオンエッチング（RIE）プロセスを採用しています。また、様々な材料の等方性・異方性エッチングを行うことができ、3D構造を生成するために使用することができます。エッチング工程では、先進コントローラによって制御されたガス供給ユニットと誘導結合プラズマ（ICP）を使用します。一方、TEL/TOKYO ELECTRON/TF etcher/asherのアッシング工程では、テフロンカプセル化された赤外線ランプを使用して、エッチングなどの残留汚染物質を除去するための再現性、気密性、化学的不活性プラズマを実現しています。アッシングマシンは、圧力、温度、チャンバーの雰囲気を正確に調整し、非常に一貫した反復可能なプロセスを提供することができます。さらに、TEL/TFエッチャー/アッシャーは、自動基板のローディングとハンドリングのための幅広い電気機械式カセットトランスファーとアクセサリーを備えています。また、基板温度を正確に維持するための真空ポンプだけでなく、高度なウェーハ加熱および冷却システムも備えています。TOKYO ELECTRON/TF etcher/asherは多目的であるように設計され、さまざまなエッチング/ashingプロセスの条件を満たすためにカスタマイズすることができます。TEL/TOKYO ELECTRON/TF etcher/Asherは、幅広い機能と先端技術を備え、半導体産業におけるエッチングおよびアッシュプロセスの信頼性と効率性に優れたソリューションです。