中古 TEL / TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K #9263885 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Formula ALD High-Kは、半導体業界におけるシリコンなどの基板の先端デバイスを製造するために設計された反応イオンエッチャー/アッシャーです。このツールは、高精度で最先端のプラズマ源を備えており、平面構造と3次元構造の両方で非常に薄い層（1nmまで）の正確なエッチングまたはアッシングを可能にします。また、エッチングまたはアッシング処理のプロセス時間を短縮しながら、最高レベルの精度を維持するために特別に設計された高度な設備拡張機能も備えています。例えば、高周波パルス源を搭載し、最適なエッチングとアッシング性能を実現するガスシステムを改良しました。また、独自のTEL Formula ALD High-K技術により、プラズマ特性の制御とエッチング速度の精度を向上させます。そのため、再現性と均一性を兼ね備えたハイレベルなエッチングとアッシングパターンの再現が可能です。さらに、東京エレクトロンフォーミュラALD High-Kは、特殊性の高いエッチングやアッシング工程において、フッ素化ガスなど様々なガスの使用をサポートしています。また、優れた清浄度と精度で幅広い材料層（厚さ1〜25nm）を製造できる機能も備えています。さらに、このシステムは、ケイ化物、酸化物、および高K誘電体などのさまざまな基板と互換性があります。適切な安全対策と専門知識を備えて使用すると、Formula ALD High-Kは、シリコンなどの基板から高性能で高度なデバイスを製造することができる信頼性の高いエッチングおよびアッシングプロセスを提供することができます。そのため、半導体企業にとっては非常に貴重なツールです。