中古 TEL / TOKYO ELECTRON Formula-1S-H #9382422 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Formula ALD High-Kは、半導体デバイスの製造に最適化された高度なエッチング/アッシャー装置です。TELフォーミュラALD High-Kは、原子層成膜（ALD）技術と高k誘電材料を活用し、エッチング深度の精密な制御と優れた選択性を提供します。この高度なエッチャー/アッシャーは、厚さを制御しながら材料を取り除くことができる信頼性の高い再現可能な真空プロセスを誇っています。その高度な冷却システムは、ウェーハ全体にわたって高速で均一な冷却速度を保証し、望ましくない横方向に定義されたエッチングを低減します。TOKYO ELECTRON Formula ALD High-Kは、最新の半導体デバイスを高速かつ精密にエッチングすることができる高効率モータです。その精密蒸着ヘッドは、さまざまなサイズの基板をエッチングする際に高い選択性を保証します。フォーミュラALD High-Kは、シリコン、酸化ケイ素、ケイ酸ケイ素、モリブデン、石英などの各種基板に対応しており、様々な半導体デバイス用途に適しています。また、従来の溶液と比較して優れた誘電特性を発揮する高k誘電材料の使用にも対応しています。TEL/TOKYO ELECTRON Formula ALD High-Kは、エッチングの均一性に優れ、高度な半導体デバイス設計に最適なエッチャー/アッシャーです。その高度な高k誘電材料は、互換性や信頼性を犠牲にすることなく、優れたエッチング結果を保証します。高効率モータにより、高密度、高速エッチングが可能ですが、精度が高いため、トータルコストを低く抑えた正確な結果が得られます。全体として、TEL Formula ALD High-Kは、最新の半導体デバイスの製造に最適化された高度なエッチャー/アッシャーマシンです。その洗練された信頼性の高い真空プロセスと高度な高k材料との互換性は、このツールは、任意のエッチングやアッシングプロセスのための理想的なソリューションになります。その結果、TOKYO ELECTRON Formula ALD High-Kは、現代の半導体デバイス製造のための強力なツールです。