中古 TEL / TOKYO ELECTRON Formula-1S-H #293744363 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON Formula-1S-H
ID: 293744363
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2005
Diffusion furnace, 12" 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Formula-1S-Hは、集積回路、薄膜、マイクロエレクトロメカニカルデバイス、および関連製品を製造するための半導体材料のエッチングおよび灰を可能にするエッチング/アッシャー装置です。このシステムは、基板の表面に適合する蒸発/凝縮プロセスを介して動作します。シリコンウエハ、ガラススライド、金属基板、エキゾチック半導体合金など、さまざまな基板タイプや材料に対応できるように設計されています。TEL Formula-1S-Hは真空チャンバーを備えており、避難ガスに密閉し、-50〜+150°Cの温度範囲で環境を維持します。真空チャンバーは、エッチングを開始する前に選択した基材を暖める内蔵のヒーターを使用しています。東京電子Formula-1S-Hは、熱脱着ユニット(TDU)を主成分としています。このユニットには、高周波エッチングユニットと低周波エッチング機の両方が含まれており、ユーザーはアプリケーションに応じてより特定の材料をエッチングして灰にすることができます。TDUはまた、微細な基板の高精度エッチングのために最大300°Cの調節可能な温度を備えています。Formula-1S-Hには、ポストエッチング解析ツールもあります。エッチングされた基材の厚さを追跡し、エッチングの精度をフィードバックします。さらに、エッチング処理の均一性に関する情報を提供することができます。最後に、TEL/TOKYO ELECTRON Formula-1S-Hは、原子レベルで基材の均質性を測定できる深紫外線光吸収モードを搭載しています。繊細な素材をエッチング・アッシングする際の精度と信頼性を提供します。結論として、TEL Formula-1S-Hは、さまざまな基材に対応するように設計された高度なエッチング/アッシャーモデルです。TDU、 PEA、 ディープUV光吸収装置などの機能により、繊細な素材をエッチング・アッシングする際の精度、精度、均一性を確保します。
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