中古 TEL / TOKYO ELECTRON Formula-1S-H #293625497 を販売中
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ID: 293625497
ヴィンテージ: 2005
Diffusion furnace
Control system
Heater temperature: 600°C-900°C
Load port
FIMS
Wafer transfer
Boat elevator / Seal cap rotation
Auto shutter
Heater model
N2 Load lock
Boat operation
Process: LPCVD
Si SEMI STD-Notch, 12"
Furnace temperature controller: M780
HTR
Power box
Carrier transfer
Mechanical driver
Exhaust box
Front and rear upper cover
Final valve box
Gas flow chart
O2 Analyzer
Hard Disk Drive (HDD)
Does not include HCT
User interface:
MMI and gas flowchart: Gas box and front operation panel installed
Pressure display Unit: Mpa / Torr
Carrier type: FOUP / 25slots SEMI STD
Fork meterial: Al203 and PEEK
W/T Type: 1+4 Edge grip
16-Carrier stage capacity
Wafer notch aligner
RCU
UPS
Power distribution system:
3-Phase connection type: Star connection
Single-Phase connection: Grounded
Single-Phase voltage
Gas distribution system:
FUJIKIN Integrated Gas System (IGS)
IGS Final filter, regulator: MFC Z500 Type
MKS Capacitance manometer vacuum gage - press monitor (133 Kpa)
Power supply: 400 VAC, 3 Phase, 50/60 Hz
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Formula-1S-Hは、コンピュータ制御のエッチャー/アッシャーです。微細加工や半導体用途において、エッチングやアッシング処理において高精度な結果を得るように設計されています。この装置には、プロセスの精度と再現性を確保するための複数のオプションと包括的な機能が装備されています。TEL Formula-1S-Hの主成分は、エッチング/アッシングチャンバーです。それはステンレス鋼から組み立てられ、600リットルの最大容量があります。チャンバー内には、ソース・ガスが導入され、精密なエッチングとアッシング処理のために真空大気が維持されます。チャンバー内の温度も精密な電子温度コントローラを介して調整されます。温度の正確な制御により、プロセスの正確な結果と再現性が保証されます。このシステムはまた、プロセスを強化するためのいくつかのオプションのアクセサリーを提供します。それはクロス汚染を防ぎ、プロセスの精密な制御を提供するために水スリラーを装備することができます。より良い解像度のために、より高い解像度で精密なエッチングのための二次プラテンをユニットに追加することができます。精密な垂直エッチング用のロールオーバープレートも用意されています。TOKYO ELECTRON Formula-1S-Hにはいくつかの利点があります。それは多目的で、異なった変数が条件に従って調節されるようにします；それは高密度エッチングを含む異なったエッチングおよびashing変数と互換性があります；そして安全特徴は危険なガスへの最低の露出を保障します。機械は既存の生産ラインに統合すること容易です。これは、プロセスデータを提供し、プロセスを監視し、結果の再現性を確保するためにコンピュータに接続することができます。また、SEM、 AFM、ウェーハステッパーなどの他のシステムと統合することで、プロセス効率をさらに向上させることができます。全体的に、Formula-1S-Hは信頼性が高く、正確なエッチャーとアッシャーです。その高性能と多くの追加機能により、さまざまな微細加工および半導体アプリケーションに最適です。
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