中古 TEL / TOKYO ELECTRON Formula-1-H #9268382 を販売中
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ID: 9268382
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2003
Nitride furnace, 12"
Gas process: DCS-SiN and ALD High-K on LPCVD
2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Formula-1-Hは、マイクロエレクトロニクス機器の製造に使用される精密エッチャー/アッシャーです。業界をリードするエッチング性能と豊富なプラズマと排気能力を兼ね備えた超高精度エッチングプロセスで、高い均一性と非常に低いエッチング高さを実現します。これは、アノード電圧を制御する独自のアルゴリズムとともに、均一なエッチング高さを可能にする平面マグネトロンを使用することによって達成されます。エッチング装置全体は、粒子発生を最小限に抑え、プロセス品質を向上させるように設計されています。TEL Formula-1-Hは、高度なイメージング技術を駆使し、超高精度プロセスを実現しています。薄膜パターンを認識し、高精度・高精度でエッチングします。エッチング材料に加え、ピュアエッチングやアスペクト比の高いエッチングやメッキにも使用できます。これにより、幅広い用途に適しています。TEL/TOKYO ELECTRON FORMULA 1Hで実現した高速エッチングは、高精度エッチング処理とプラズマ陽極電圧調整技術の組み合わせによるものです。この高速エッチングにより、基材や周辺部品の損傷を避けながら、短時間で超精密エッチングを実現します。高速エッチングによりエッチング高さの均一性も向上し、高品質で高精度な仕上がりを実現します。このエッチング処理は、非常に安定したエッチング処理と精密なエッチング条件を提供する自動多周波in-situ監視装置によって監視されます。さらに、自動濃度制御システムにより、プロセスが正確かつ一貫して調整され、最適なエッチング条件が維持され、信頼性と再現性の高い結果が得られます。最後に、これらの機能はすべて、合理化された生産プロセスのための単一のユニットに組み込まれています。さらに、この機械はまた適用範囲が広く、特定の適用および条件のために容易にカスタマイズされるように設計されています。これにより、Formula-1-Hは最新の技術と高効率な生産プロセスを組み合わせることができます。
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