中古 TEL / TOKYO ELECTRON Chamber for Tactras Vigus #9298663 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Chamber for Tactras Vigus （ETCHER/ASHER）は、最先端のバッチ式エッチング装置です。エッチングされた微細構造の寸法と形状を正確に制御するように設計されており、プロセス全体の温度、ガス圧力、バス温度、およびさまざまなエッチングガスタイプをリモートで制御することができます。Tactras Vigusチャンバは、MEMS、ウェーハ、SOIおよびSiの製造、ガラスエッチング、CMPやクリーニングなどのさまざまな半導体プロセス、およびRFなどの高周波回路ボードのエッチングに適しています。温度範囲は-10〜400°C、圧力範囲は0。1〜600 mbarです。このチャンバーには、アルゴン（Ar）、窒素（N2）、二酸化炭素（CO2）、水素（H2）などのガスも装備しており、エッチング処理を容易にしています。エッチングシステムには、バックサイドの冷却ユニット、温度均質化マシン、ガス供給ツール、不活性ガス資産、ガス排出モデル、さまざまなプロセス要件を満たすために事前に設定されたレシピ機能などの高度な機能も備えています。日本工業規格（JIS）の認証を受けており、オンラインフールガス削減（FGR）*、E-ferriteアルゴンガスFGR、 CVD**に準拠しています。また、FGR***再生機能を搭載し、エッチング工程で発生する有害ガスを低減します。さらに、チャンバーには、エッチング処理を容易にするために、さまざまなガスの組み合わせの設定が事前にプログラムされています。さらに、Tactras Vigus Chamberは半導体およびエレクトロニクス業界での使用が承認されており、1年間の保証が付属しています。その設計は使いやすいLCDパネルおよび便利なコントロールパネルと、作動し、維持することを容易にします。多種多様な素材をエッチングすることができ、幅広いエッチング用途に対応した汎用性の高いデバイスです。全体的に、TELチャンバーfor Tactras Vigusは、信頼性の高い性能と正確なエッチング結果を提供する高度なエッチング装置です。ユーザーフレンドリーな機能と幅広いサポートガスタイプにより、さまざまなエッチング処理に適しています。*FGR-Foul Gas Removal**CVD-Chemical Vapor Deposition***FGR-Foul Gas Remediation