中古 TEGAL Chamber for 415 Plasma asher #293661204 を販売中

TEGAL Chamber for 415プラズマアッシャーは、半導体製造および研究に使用される高度なエッチング/アッシング技術です。415プラズマアッシャーは、正確な温度制御により、酸素またはプロセスガス環境における迅速なエッチングおよびアッシングプロセスを可能にします。チャンバーは非常に小さなフットプリントを備えており、使いやすいように設計されています。それはステンレス鋼の内部とプロセスガス分布の均一性を向上させるための特別なタングステン連動チャンバー設計を持っています。安全インターロック、デュアルチャンバー圧力モニター、安全遮断ソレノイドバルブなど、最新の安全機能を備えています。チャンバーには、低容量、ピーク、ミディアム、超高速RFジェネレータが装備されており、幅広い動作条件を可能にします。400mmHgまでの低流量で、高精度で再現性のあるエッチングとアッシング結果を提供します。チャンバーの高度なモーションコントロール装置は、サンプルの位置を正確に制御することにより、最大のプロセス均一性を保証します。適応制御透過フィルターシステムは、クリーンチャンバー表面を維持し、荷電粒子の汚染を防ぐのに役立ちます。TEGALプラズマアッシャーは大きなチャンバー容量を持ち、最大244mm（正方形または長方形）のプロセスプレートのサイズに対応できます。また、空気中の粒子の汚染を制限し、非常に精密なエッチング処理を可能にするデジタルガス圧力制御ユニットを備えています。チャンバーは最先端の暖房機で覆われており、温度変化に迅速に対応します。415プラズマアッシャーは、お客様固有のプロセスパラメータを満たすことで、一貫したパフォーマンスと再現性を提供するように設計されています。既存のエッチング/アッシング技術と比較して、操作とメンテナンスが容易で、生産性を向上させ、コストを削減するように設計されています。高品質のウェーハを確保し、歩留まりを最大化します。その高度な安全機能とモーションコントロールツールは、エッチングとアッシングプロセスの信頼性の高い資産です。