中古 TEGAL 981 #9159791 を販売中

TEGAL 981はナノ加工業界向けの高度なエッチャー/アッシャーです。これは、高度なプラズマ生成技術を使用して、マイクロエレクトロニクス材料の精密エッチングとアッシングのために特別に設計されています。981は、Deep Reactive Ion Etching （DRIE）とInductively Coupled Plasma （ICP）機能を組み合わせることで、45nm以下の解像度の高速で信頼性の高いエッチングを提供します。TEGAL 981は、シリコン、ガラス、セラミックスなど、幅広いエッチング技術とアッシング技術を可能にする幅広いプロセスチャンバーを備えています。それは13cmの長いポンピングシステム、RIEおよびICPの部屋、および真空ターボ分子ポンプが装備されています。これにより、エッチングプロセスを正確に制御でき、ナノメートルレベルの精度を実現できます。このシステムには、リアルタイムの制御調整と最適化を可能にする追加のセンサーとモニターも装備されています。981の最も印象的な特徴の1つは、エッチングの均一性です。ICPとDRIE機能を組み合わせることで、厚さの均一性が最大1％の層をエッチングすることができます。これにより、金属層から絶縁体、金属酸化物までのエッチング材料に最適です。また、500umまでの非常に広い深度のエッチングを提供することができ、高アスペクト比の処理アプリケーションに適しています。TEGAL 981はまた、複数のワークを同時に処理する能力のおかげで、他のエッチャーと比較して費用対効果の高い操作を提供します。これにより、材料コストと人件費の削減という点で大幅なコスト削減が可能になります。さらに、さまざまなCADプログラムとの互換性など、複雑な形状や機能をエッチングする際に柔軟性を高めるさまざまな高度な機能が搭載されています。これにより、あらゆるナノ加工ニーズに最適です。