中古 TEGAL 903E #293811530 を販売中

TEGAL 903Eは、基板上の表面を処理するために使用される精密プラズマエッチングツールです。ICP （Inner-Crown Pressure）システムを採用しており、エッチング速度を正確に制御できます。マイクロエレクトロニクス製造、MEMS （Micro-Electro Mechanical Systems）デバイス製造、研究開発、医療機器製造、およびエッチング速度に対する高度な制御が必要なその他の分野で一般的に使用されています。ガスコントローラ、リール、アイソレーションシステム、スピンコーターなど、さまざまなアクセサリーを装備できる多目的な真空チャンバーを備えています。最大使用圧力は500 mTorrで、最大6インチ（152。4 mm）の基板に対応し、プロセス温度は200°Cまでです。また、ユーザーがプラズマエッチングパラメータを正確に制御し、室内状態を監視できるようにする完全なソフトウェアを備えています。TEGAL 903 Eには高度なICP （Inner-Crown Pressure）ソースが搭載されており、エッチング工程での安定した作業環境、均一性、再現性を確保しています。ICPシステムを使用すると、エッチング圧力を数ミリリットル以内に維持することができ、基板全体の均一性を高めます。また、903Eには、任意のエッチング速度を達成するために簡単に調整することができる可変速度回転電極があります。可変速度回転を可能にすることにより、プロセスのニーズに応じてエッチング速度を変化させることができます。回転速度とエッチング速度は、毎分0。1〜800 nmの範囲です。903 Eには、プラズマ環境をよりよく調節するためのユニークな誘電窓もあります。これらの窓は、プラズマを角度と放射状に集中させ、高精度エッチングを実現します。TEGAL 903Eにまた容易な取付けおよび速い維持を可能にするモジュール構造があります。エッチング工程で基板のエネルギーレベルをモニタリングするウエハパワー測定ユニットを内蔵し、信頼性の高い性能を実現しています。TEGAL 903 Eは、高度な基板エッチングのための汎用性と信頼性の高いデバイスであり、正確で反復可能な結果を保証するさまざまな機能を備えています。それは日常的な生産、研究開発などに適しており、多くの産業および科学的用途に理想的なツールとなっています。