中古 TEGAL 901e #9016257 を販売中

TEGAL 901eは、フォトマスク、薄膜ヘッド、MEMSデバイスの製造用に設計された、高度で高スループットプラズマエッチャー/アッシャーです。特許取得済みのパルスレーザーエッチング技術を使用し、従来のエッチングツールの最大5倍のエッチング速度を提供します。精密なフィーチャーエッジ定義とエッチング損傷を最小限に抑え、最大25 μ m/minのエッチング速度を実現できます。パルスモード機能により、エッチングプロセスの深さプロファイルを制御し、エッチング材料の再配置を減らすことができます。TEGAL 901 Eは、高均一性、選択性、均質性を有する等方性エッチングに最適化された磁場閉じ込め誘導結合プラズマ（ICP）源によって駆動されます。ICPソースは、エッチングの選択性を正確に制御し、最大500°Cのチューニング範囲で調整可能で、高い再現性と安定性で最大10 Wの電力を供給できます。901eはAr、 O2、 N2および他のプロセスガスのための独立したマスフローコントローラ（MFC）およびガス圧力制御センサー（GPCS）によってエッチングおよび冷却ガス配達の精密な制御を提供します。901 Eは、450 x 400 x 450 mm3のチャンバーサイズと最大3 x 3 in （76 x 76 mm）のサンプルサイズの正確なプラズマエッチングを提供します。これは、完全に自動化されたFOUPローディングモジュールと光学密度検出システムを備えています。さらに、低軸受けプラズマと完璧な設計により、TEGAL 901eは優れた寿命で優れた汚染制御を提供します。TEGAL 901 Eは、ハイエンド半導体、フォトマスク、MEMSアプリケーション向けに設計された革新的なエッチングツールです。エッチングの精度、エッチングの配信とパラメータの正確な制御、および汚染制御のための低軸受プラズマを提供します。簡単に自動化され、堅牢で費用対効果が高く、製造およびハイエンドのエッチングプロセスに最適なツールです。