中古 TEGAL 901e #9016256 を販売中

TEGAL 901eは、Si、 SiO2、 GaAsなどの大面積基板のフォトレジスト加工用の高性能エッチャー/アッシャーです。このコンビネーションエッチャー/アッシャーは、エッチガス消費量を低減する共振剤を使用した高効率の低圧サイドウォール注入プラズマ源をベースにしており、汚染を最小限に抑え、ウェーハ処理に要する時間を短縮します。TEGAL 901 Eは、圧力設定、ガスフロー設定、RF電源設定などの幅広いプラズマパラメータを備えており、ユーザーはプロセスパラメータを最適化し、製品のエッチング速度と品質を向上させることができます。エッチャー/アッシャーはまた、優れた均一性、ならびに精密で高品質のエッチングを提供します。また、従来のウェットケミカルエッチングではできなかったフォトレジスト治療も可能です。901 Eには統合診断機能が搭載されており、ユーザーはリアルタイムでプロセス状況を監視できます。これらの診断パラメータには、エッチング速度と品質、RF電力、真空圧力、およびガスの流れが含まれます。このシステムは、ユーザーに強化されたプロセス制御を提供し、より高いスループットと歩留まりのためのプロセスの最適化を可能にします。TEGAL 901eはまた、高効率、低圧サイドウォール注入プラズマソース設計により、基板全体に高いプロセス均一性を提供します。この機能は、より大きな基板サイズを加工する際に特に便利で、従来のウェットケミカルエッチング剤に比べてウェハロット数を増やすことができます。TEGAL 901 Eは、表面処理とアッシングを必要とするエッチングプロセスに優れたプラットフォームを提供する2チャンバー設計を特徴としています。アッシングチャンバーはホットからコールドモードに切り替えることができ、セットアップ時間を最小限に抑えてエッチングとアッシングプロセスを切り替えることができます。アッシング機能に加えて、901eはエッチング工程の正確なタイミングとフロー制御も提供します。901 Eは、フォトレジスト処理やその他のフォトマスクやエッチング要件などの要求の厳しいプロセスに理想的なエッチャー/アッシャーです。その高度な機能と高性能機能により、TEGAL 901eは、大面積の基板をエッチングおよびアッシングするための信頼性と費用対効果の高いソリューションとなります。