中古 TEGAL 803 #9180201 を販売中

ID: 9180201
Plasma inline etcher.
TEGAL 803は、80年代にTEGAL Devices、 Inc。によって開発されたエッチャーおよびアッシャーです。集積回路の開発に使用するために設計されており、薄型、小規模の電子部品の金属および誘電体生産の様々なレベルの生産を含みます。803は、薄膜金属と誘電体構造を形成するために使用される高性能エッチャーとアッシャーでした。パネルマウントされたデジタルディスプレイや強力なエッチャー、アッシャーエンジンなど、最先端のコンポーネントを搭載しています。TEGAL 803には、ユーザーがプロセスを正確に計画し実行できるように設計されたさまざまな機能がありました。アッシング速度は0。1〜5。0ワットで0。01インクリメント、プラズマエッチング速度は0。3〜5。0ワットで0。01インクリメントで設定できます。また、Toe Pressure、 Pressure Supported、 Bubble Etchingなど、さまざまなプラズマ駆動技術をサポートできる高度な電源も備えていました。その使いやすいパネルにより、集積回路設計者やエンジニアは、圧力、電力、プロセスシーケンスなどのパラメータを迅速かつ簡単に入力および調整することができました。803は、高精度の差圧制御サブシステム、ユーザーがプロセスの軌道を制御できる傾斜制御機能、専用のマルチガス供給およびパージシステムなど、幅広い材料とコンポーネントを備えていました。このシステムのコントローラはパネルに統合され、薄膜構造の精密かつ再現可能なエッチングを可能にしました。TEGAL 803には、マルチポケットワイヤレベルの成膜技術も組み込まれており、強力なi-lineおよびDUVマスクイメージング機能を提供しています。803は非常に信頼でき、一貫したように設計されていました。高度なISO 9000認定のオートシーケンシングおよびオートトラッキング機能により、ユーザーは正確な均一な密度分布を持つ薄膜構造を迅速に開発できます。堅牢な金属蒸着機能により、厚さが2ミクロン未満、幅が1ミクロンと狭くなります。さらに、高度なECR(電子サイクロトロン共鳴)処理により、エッチング速度を高速化し、複雑なエッチング構造のエッジ収束を改善しました。要するに、TEGAL 803は強力で信頼性の高いエッチャーおよびアッシャーであり、集積回路エンジニアが薄膜金属および誘電体構造を迅速かつ正確に開発できるように設計されています。高度なデジタルディスプレイとエッチャー/アッシャーエンジン、プロセスパラメータの正確な制御、および材料とコンポーネントの堅牢な選択を特長としています。高性能な機能とISO 9000認定のオートシーケンシングおよびオートトラッキングにより、803はユーザーに信頼できる結果を提供し、薄膜マイクロスケール電子部品の開発を支援しました。
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