中古 TEGAL 6550 #9155217 を販売中
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ID: 9155217
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2003
Reactive Ion Etcher (RIE) system, 8"
Platform: Rinse / Strip, through-the-wall, signal tower
PDM: Standard
System includes:
(2) Patented spectra plasma process modules
Standard ceramic electrostatic clamp (200 mm)
High temperature electrostatic clamp (200 mm)
(2) Integrated diode array optical analyzers
(2) Recirculating temperature control units
Vacuum cassette elevator loadlock
Core vacuum transport module with robot
Wafer aligner module
ICP Strip process module
Spin rinse / Dry process module
Atmospheric transport module with robot
Remote RF generator cabinet
Remote power distribution module
Integrated human interface and control system
Remote LCD interface module
Cleanroom signal tower (3 Color standard)
PM 1: Spectra 1.0, Special HT-ESC
MFC Type: MYKROLIS TYLAN FC2900
Gas 1: BCl3, 0-200sccm
Gas 2: Cl2, 0-50sccm
Gas 3: SF6, 0-50sccm
Gas 4: HBr, 0-50sccm
Gas 5: CF4, 0-50sccm
Gas 6: Ar, 0-200sccm
Gas 7: He (Water temperature control)
LF Generator: 600 watts
HF Generator: 1200 watts
Gas injection: Open ring
PM Turbo pump: 1000L/s
End point: Diode array
LE Temp range: Filtered house cooling water
PM 2: Spectra, special high vacuum mod's
MFC Type: MYKROLIS TYLAN FC2900
Gas 1: Spare
Gas 2: Spare
Gas 3: He, 0-200sccm
Gas 4: Spare
Gas 5: Ar, 0-100+sccm
Gas 6: Ar, 0-500+sccm
Gas 7: He (Water temperature control)
LF Generator: 300 watts
HF Generator: 1200 watts
Gas injection: Open ring
PM Turbo pump: 1000L/s
End point: Diode array
LE Temperature range: Noah precision: GALDEN PFPE HT170
PM 3: ICP Strip module
MFC Type: MILLIPORE TYLAN 2900
Gas 1: O2, 0-2000sccm
Gas 2: N2, 0-500sccm
Gas 3: He, 0-500sccm
PM4: DI Water rinse module
Gas 3: PM3 (strip)
Gas 4: PM2 (etch)
Gas 5: PM2 (etch)
Chambers:
ICP Cl2 / CFxHy Etch chamber (primary etch chamber)
ICP Low-voltage Ar mill "SOM"
Anti-corrosion treatment used with He / H2 or N2 / H2
Anti-corrosion water rinser
O2-Based asher
EDWARDS QDP-40,80
Gas reactor column EDWARDS M150
CE Marked
AC Supply: 400 V, 3 Phase, 50 Hz, 5 wire
2003 vintage.
TEGAL 6550は、フロントサイドとバックサイドの両方のウェーハ処理用に設計されたエッチャー/アッシャーです。このシステムは、基板層の中に3次元パターンを作成する非常に効率的で費用対効果の高い方法を提供します。6550は乾燥したおよびぬれたエッチングの両方を利用して非常に選択的な処理を可能にします。エッチャー/アッシャーは基板内の3次元視野を備え、レイヤーの物理的な歪みを引き起こすことなく正確なパターンを作成します。また、6位置の高解像度メカニカルシフトも備えており、自動および手動のアライメントに最適です。TEGAL 6550は、基板シフトレートの調整速度と、より広いパターンを追跡するためのレーザースキャンシステムを備えています。エッチャー/アッシャーは、他のシステムに統合するためのネットワーク機能を備えた高度なコンピュータ制御プラットフォームを利用しています。さらに、6550には、さまざまなエッチングタスクを実行するための組み込みソフトウェアパッケージが装備されています。このパッケージはユーザーフレンドリーで直感的で、ユーザーが簡単にエッチング手順を理解して最適化することができます。TEGAL 6550には、ドライバーボード、電源、冷却システムなど、さまざまなコンポーネントが付属しています。また、エッチングプロセスのスループットを向上させるために、統合された絶縁型RFジェネレータも提供しています。この機能により、エッチング処理の最大レベルの制御が保証されます。6550には、使用していないときにシステムをオフにする自動電源オフ機能や、承認されたユーザーのみにアクセスできる内蔵のETCHERセキュリティスイッチなど、高度な安全機能も多数搭載されています。すべてにおいて、TEGAL 6550は高精度の基板加工用に設計された高度なエッチャー/アッシャーです。信頼性が高く、費用対効果が高く、精密で正確なエッチングに必要なすべての機能が付属しています。
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