中古 STS / CPX Multiplex ICP #9313228 を販売中

ID: 9313228
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 2005
Si Etcher, 6" Pressure controller: VAT PM-7 65046-PA52-AJAI/0016 Gas module: Chamber: Ar 100SCCM O2 100SCCM SF6 300SCCM C4F8 200SCCM RF Generator: ENI ACG-3B 13.56 ENI ACG-10B-07 ADVANCED ENERGY LF-5 AE 50~460MHz Chiller: AFFINITY RWA-012L-CE35CBD4 STS Turbo pump: LEYBOLD MAG 1500CT Dry pump: EDWARDS iQDP80 Pump: VARIAN SH100 2005 vintage.
STS/CPX Multiplex ICPエッチャーは、誘導結合プラズマ(ICP)技術を使用してさまざまなフォトレジストやその他の製品をエッチングまたは灰にするエッチャーまたはアッシャーの一種です。このエッチャーは、電力、周波数、ガスの流れ、圧力などのプロセスパラメータを正確に制御できる高効率のツールです。STS Multiplex ICPエッチャーは、アプリケーションと処理される材料に応じて、異なるICPソースで再構成できる柔軟なチャンバーで設計されています。ICPソースを素早く切り替えることができ、1つのジョブから次のジョブへの迅速な切り替えが可能です。この装置には、ガス配送システムと、さまざまなガスをチャンバーに導入できる冷却グループも含まれています。ガスは特定のエッチングまたは灰パターンを生成するために使用でき、エッチング速度と選択性を制御するために調整することができます。CPX Multiplex ICPエッチャーは、幅広いアプリケーションに最適な多くの機能を備えて設計されています。精密パワーコントロールにより、エッチングや灰の均一性を向上させ、高精度な基板エッチングやアッシングを実現します。また、均一なエッチングや灰を生成するために、プラズマのオートフォーカスを可能にするオートフォーカス機能を搭載しています。これは、斜めのウェーハを処理する場合に特に便利です。機械にまた過熱を防ぐのを助ける統合された冷却用具があります。要約すると、Multiplex ICPエッチャーは、さまざまなアプリケーションに適した高効率のエッチングまたはアッシングツールです。手元のジョブの特定の要件に合わせて簡単に再構成できる柔軟なチャンバーを備えており、オートフォーカス機能と調整可能なガス配送資産は、エッチング率と選択性を優れた制御を提供します。さらに、高精度電力および冷却システムにより、均一性が向上し、モデルが過熱するのを防ぎます。
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