中古 STS / CPX Multiplex ICP #293633096 を販売中

STS/CPX Multiplex ICP （Inductively Coupled Plasma）エッチャー/アッシャーは、基板の反応イオンエッチングおよびアッシングのための先進的な装置です。強力で効率的な誘導結合プラズマ（ICP）源を利用して、高速、高精度、均一なエッチングおよびアッシング操作を提供します。このシステムは、金属、誘電体、半導体、複合材料など、エッチングまたはアッシングを必要とするさまざまな基板を処理することができます。STSGCPX STS Multiplex ICPエッチャー/アッシャーは、標準STSマシンの実績ある性能と高度な機能と高性能ICPソースを組み合わせて、非常に厳しい基板のエッチングとアッシングを可能にします。ICPソースは、高イオン密度、高エネルギーイオン爆撃を提供し、正確に制御されたノズルを介して指示され、均一なエッチングまたはアッシングを可能にするために基板に向けられます。このユニットはまた、比類のない均一性と再現性を提供し、より高いエッチング速度でミクロンの精度の分数を達成する能力を備えています。この機械には、複数のプロセスサイクルと広い温度範囲が可能な統合された加工チャンバが含まれています。統合されたガス供給ツールにより、ガス化学の流れと圧力を正確に制御でき、エッチング率を最大化し、基板とチャンバーの汚染を低減できます。このアセットには、ユーザーフレンドリーなマルチスクリーンのグラフィカルインターフェイスも装備されており、優れたパフォーマンスを容易にする簡単なユーザー操作を可能にします。CPX Multiplex ICPエッチャー/アッシャーは、誘電体や金属材料を含む幅広い材料を安全、効率的、正確にエッチングおよびアッシャーする能力をユーザーに提供します。このモデルは、大量生産性、高い再現性、優れた冷却能力、低い運用コストを提供するため、エッチングおよびアッシング製造、プロトタイピングおよび研究アプリケーションに最適です。この装置は汎用性が高く、幅広い基板やアプリケーションを処理することができ、ユーザーの個々のニーズに合わせて操作をカスタマイズすることができます。