中古 SPTS / APPLIED MICROSTRUCTURES MVD150 #293831476 を販売中
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ID: 293831476
ウェーハサイズ: 8"
Molecular Vapor Deposition (MVD) system, 8"
Single chamber
O2 Plasma generator
Onboard liquid ampules
Aera: PA-781C 10L N2
Aera: PA-780C 500 SCCM O2
Dry pumps:
BUSCH BA100
Cooling trap on fore line.
SPTS/APPLIED MICROSTRUCTURES MVD150は、半導体産業の微細加工プロセス向けに設計された高度なエッチャー/アッシャー装置です。この汎用性の高いツールは、半導体デバイス、MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems)、およびその他のマイクロエレクトロニクス部品の製造におけるエッチングおよび洗浄アプリケーションに広く使用されています。SPTS MVD150の主な特徴の1つは、精密かつ再現可能なエッチングとアッシングプロセスを可能にする高度なプロセス制御機能です。半導体製造において高い歩留まりと信頼性を実現するために不可欠な、優れたプロセス均一性とデバイス性能を実現します。プラズマエッチング技術とアッシング技術を組み合わせ、基板から材料を選択的に除去します。プラズマ源は、基板表面の材料と相互作用する反応種を生成し、基板のエッチングまたは洗浄につながります。応用マイクロストラクチャーズMVD150は、さまざまな材料とプロセス要件に対応するために、さまざまなガス源とプロセスレシピを備えています。MVD150は、圧力、温度、ガス流量などの精密なプロセス条件を維持する高性能の真空チャンバーを備えています。これにより、エッチングおよびアッシングプロセスが管理された環境で実行され、汚染を最小限に抑え、高いプロセス再現性を確保できます。ユニットは、チャンバー内のプラズマを作成し、維持するために必要なエネルギーを提供する高度なRF(無線周波数)電源が装備されています。RFパワーは、異なる材料や基板のプロセス条件を最適化するために変調することができ、エッチングおよびアッシングパラメータの微調整を可能にします。SPTS/APPLIED MICROSTRUCTURES MVD150には、ガス流量と混合物の正確な制御を可能にする最先端のガス供給機も装備されています。これにより、エッチングおよびアッシング工程中に適切なガスの組み合わせがチャンバーに供給され、高い選択性と均一性を持つ材料の選択的除去が可能になります。このツールはユーザーフレンドリーなインターフェースによって制御され、オペレータはリアルタイムでプロセスパラメータをプログラムして監視することができます。プロセスレシピは、特定のアプリケーション要件を満たすように簡単にカスタマイズでき、データロギングとレポート機能により、プロセスの最適化とトラブルシューティングが可能になります。SPTS MVD150は、運転中のオペレータや機器を保護するためのインターロックと安全システムを備え、安全性と信頼性を念頭に置いて設計されています。また、メンテナンスの容易さのために設計されており、アクセス可能なコンポーネントとダウンタイムを最小限に抑え、継続的な動作を保証する保守可能な部品があります。APPLIED MICROSTRUCTURES MVD150は、半導体業界の微細加工プロセスにおいて比類のない性能と精度を提供する最先端のエッチャー/アッシャーモデルです。高度なプロセス制御機能、汎用性の高いガス供給装置、ユーザーフレンドリーなインターフェースを備えたMVD150は、高品質で信頼性の高いデバイス製造を目指す半導体メーカーにとって貴重なツールです。
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