中古 SOLAR SEMI ENGINEERING E6710 #293649341 を販売中
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ID: 293649341
Porous silicon etching system
Full-area porous Si layer formation
Single wafer processing with fast cycle time (10 wafers per hour)
Wafer: Round, 6" / Square, 5"
Internal circulation of etchant
Upper controls panels
Laminar air flow wafer processing area
Wet plenum area
Sample station
Fan and HEPA filter housing.
ソーラーセミエンジニアリングE6710は、正確で反復可能な表面処理を可能にする強力なエッチング/アッシングプロセスです。この機械は、金属、プラスチック、ポリマー、複合材料を含むさまざまな表面に保護コーティングを適用するための標準的な方法である標準的なエッチング/アッシングプロセスの高度なバージョンです。この高度なエッチング/アッシングプロセスは、乾燥エッチングおよびアッシングが必要な精密表面を必要とするアプリケーション向けに設計されています。E6710は、加工される材料に特化した幅広いプロセスレシピを作成するために使用できるさまざまな調整可能なパラメータを備えています。機械の制御システムはユーザーが望ましい表面の終わりおよび化学成分を達成するためにプロセスパラメータをカスタマイズすることを可能にします。制御システムには、異常なプロセス変更が発生した場合に機械をシャットダウンできる一連の安全機能も含まれています。SOLAR SEMI ENGINEERING E6710は、加工する材料に焦点を当てた高強度紫外線(UV)放射を利用しています。この強烈な紫外線露光により、光化学反応が大幅に加速され、化学結合が破損して表面から除去されます。エッチング/灰プロセスによって除去される化合物は、通常、硫黄化合物または炭化水素化合物であり、多くの場合、さまざまな材料の表面に存在します。また、強烈な紫外線を利用して、疎水性(水をはじく)や親水性(水を引き付ける)などの表面化学を修正することができます。E6710は、厚さ10mmまでの幅広い材料とのプロセス互換性を備え、約0。1〜400mmの有効なプロセス範囲を有しています。さらに、プラズマストリームとその方向を正確に制御できるノズルシステムを搭載しています。これにより、より正確で一貫したエッチング/アッシング操作が可能になります。機械はまた有害なUVC光線への露出からオペレータを保護するのを助ける封じられた血しょう部屋を使用します。このチャンバーはまた、マシンによって放出される紫外線を含むのに役立ちます。ソーラーセミエンジニアリングE6710は、強力なエッチング/アッシングプラットフォームを探している人に最適です。このマシンは、さまざまな表面仕上げをもたらすことができる精密かつ反復可能な表面処理を提供しています。さらに、安全機能と密閉されたプラズマチャンバーにより、信頼性と安全性の高いエッチング/アッシングマシンをお探しのお客様に最適です。
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