中古 SHIBAURA CDE-7-4 #293796126 を販売中

SHIBAURA CDE-7-4は、先進的な半導体製造プロセス向けに設計された最先端のエッチャー/アッシャー装置です。この精密機器は、革新的な技術を統合して優れた加工能力を提供し、卓越した精度と信頼性を備えた高品質の半導体デバイスの生産を可能にします。SHIBAURA CDE 74は、半導体基板の薄膜エッチングやアッシングなどの用途に広く使用されています。CDE-7-4の主な特徴の1つは、半導体基板から材料を精密かつ均一に除去できる高度なプラズマエッチング技術です。このシステムは、高密度のプラズマ源を利用して、目的の材料を選択的にエッチングする反応種を生成し、基層を保護します。これにより、高いアスペクト比とサブミクロンのフィーチャーサイズを持つ複雑な半導体構造の製造が可能になります。CDE 74には高度なプロセスコントロールユニットが装備されており、プロセスパラメータのリアルタイム監視と調整を可能にし、一貫性のある再現性のある結果を保証します。このマシンはユーザーフレンドリーなインターフェースを備えているため、オペレータはさまざまなアプリケーションのエッチングプロセスを簡単にプログラムして最適化できます。SHIBAURA CDE-7-4では、さまざまな半導体材料やデバイス構造に対応するために、複数のプロセスレシピやカスタマイズ可能な設定も提供しています。エッチングだけでなく、半導体基板からフォトレジストなどの有機汚染物質を除去するアッシング処理も可能です。このツールは、プラズマと反応性ガスの組み合わせを利用して、基層を損傷することなく効率的に有機材料を除去します。この能力は、複数のリソグラフィ工程を伴う半導体製造プロセスに不可欠であり、フォトレジスト残留物の除去が必要です。CDE-7-4は、高品質の部品と高度な制御システムを備え、長時間の動作にわたって一貫したパフォーマンスを保証する、精度と信頼性を念頭に置いて設計されています。この資産には、オペレータを保護し、プロセスの中断を防ぐためのガス漏れ検出器、真空インターロック、緊急シャットダウン機構などの安全機能が装備されています。また、CDE 74はメンテナンスの容易さのために設計されており、アクセス可能なコンポーネントと迅速なトラブルシューティングとサービスを容易にするモジュール設計が施されています。全体として、SHIBAURA CDE-7-4は、半導体製造プロセスにおいて卓越した性能と信頼性を提供する最先端のエッチャー/アッシャーモデルです。高度なプラズマ技術、精密なプロセス制御、ユーザーフレンドリーなインターフェースにより、要求の厳しい仕様の高品質の半導体デバイスを製造するための貴重なツールとなります。SHIBAURA CDE 74は、包括的な機能と堅牢な設計により、最適なプロセス結果を達成し、競争力のある業界で前進することを目指す半導体メーカーにとって信頼できるソリューションです。