中古 SEZ / LAM RESEARCH SP 323 #9211042 を販売中

SEZ/LAM RESEARCH SP 323は、ドライエッチング、シリコン、銅、ガラス、その他の材料用に設計されたエッチャー/アッシャーです。これは、高密度プラズマエッチングのために2450°Cまで加熱石英コーティング、大面積チャンバーを備えています。これは、高密度プラズマ（HDP）下で動作し、最大10A/minの印象的な堆積率を持っています。SEZ SP 323は、オブジェクトのサイズとエッチング/アッシングの種類に応じて、さまざまなチャンバーから選択できます。10-5 torr〜10-4 torrの真空範囲と最大40kWの出力（13。56 MHzの周りのRF周波数にポンピングすると、複雑なエッチング作業に最適です。微妙な表面への損傷を防ぐために、部屋はまた化学汚染がないことを保障するために電子洪水銃および窒素の背部冷却された壁を供給します。LAM RESEARCH SP323は、真空チャンバーとRFジェネレーターの2つのチャンバーで構成されています。真空チャンバーは、均一な加工条件を確保するために密閉されています。チャンバーは石英でできており、より長い耐用年数と重要なアプリケーションのためのより良い処理精度を提供します。RFジェネレータは、チャンバに無線周波数波を送り、プロセスパラメータを正確に制御することができます。SEZ/LAM RESEARCH SP323には、クワッドおよびデジタルRF分光システム、ファラデープローブ、質量分析システム、およびコンピュータ支援プラズマ診断などのさまざまな診断ツールが装備されています。これらのシステムは、電子温度、イオン温度、プラズマ種および密度、ならびに反応剤/製品比などの特性を正確に測定することができます。これは、ユーザーが手元のタスクに最適な処理条件を決定するのに役立ちます。全体として、SP 323は、最も要求の厳しいドライエッチングおよびアッシング作業にも対応できるように設計された高性能エッチャー/アッシャーです。大面積の石英チャンバー、窒素冷却壁、RFジェネレータにより、シリコン、銅、ガラスなどの材料のエッチングとアッシングに最適な環境を提供します。また、蒸着率が高いため、大量生産環境に適しています。