中古 SEZ / LAM RESEARCH SP 223 #293655016 を販売中
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販売された
ID: 293655016
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2001
Spin processor, 8"
(2) Chambers (P223)
2001 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH SP 223は、エレクトロニクス業界で高解像度フォトリソグラフィーマスクやウエハーのエッチングやアッシングに使用される洗練されたエッチャー/アッシャーです。最大4つのウェーハを同時に処理できる並列バッチ処理装置です。SEZ SP 223にはアクティブ/非アクティブなスイッチがあり、ユーザーはプロセスを切り替えることができます。エッチャー/アッシャーには2つのチャンバがあり、それぞれに独自のプラズマ源、ガス供給システム、エッチング/灰チャンバーがあります。チャンバーはプラズマプロセッサに接続され、圧力、ガスの流れ、RF発電機の周波数、およびプロセスの他のパラメータを制御します。プロセスパラメータは、あらかじめ定義されたレシピから派生し、ユニットのメモリに格納されます。LAM RESEARCH SP 223マシンは、1ミクロン未満の解像度にフォトマスクをエッチング/アッシュするように設計されています。高解像度は、精密に制御された環境を維持し、正確なエッチング/アッシングを保証するツールのアクティブチャンバー制御アセットによって実現されます。さらに、このモデルは、1つのプロセスで1つのマスクをエッチング/灰に使用できる2つの異なるレシピを提供しています。機器には、エッチング/灰の損傷を最小限に抑えるように設計されたセーフガードも内蔵されています。システムのプラズマシールド、少量搬送ユニット、事故防止装置は、過剰エッチング、水素やその他の損傷剤への暴露、および潜在的に危険なリスクから処理されるマスクまたはウェーハを保護するように設計されています。SP 223は堅牢で信頼性の高いエッチャー/アッシャーで、正確な制御と高性能を手頃な価格で提供します。フォトリソグラフィーマスクとウェーハを正確かつ迅速に処理するための一貫した方法を必要とする人に最適です。
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