中古 SEZ / LAM RESEARCH RST 201 #293600300 を販売中
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ID: 293600300
Spin etcher
(4) Vertical ring chambers
Single wafer process for front and back side
Dispenser system
CDS System
DIW Arm
N2 Arm
Load system: (2) Open cassettes, 8"
Single arm robot with AL vacuum end effector
(2) ECO Swivel levers: Front / Back side wafer handling
Standard chuck, 8"
Vacuum end effector
LAUDA Heater exchanger
Temperature: 65°C
Power: 2.3 kW
Dry N2 monitor
Suck back system
Chemical drain tank
PVDF Tube / Tank material
PD Box
Speed motor
CDS With PC
Front side control table
PC and motor controller
Cables
Offline monitor
Heat exchanger temperature:
Warm / Fault: 65 ±2°C
Warm / Fault: 65 ±3°C
Medium X Flow:
Medium 3 Flow (SLM/MN): (HF: CH3COOH 505 LPM)
Safety:
EMO Type: Turn to release
Label: Emergency off
EMO Button guard ring
Water leak detector
DI Rinse flow: DIW (SLM/MN)
N2 Dry flow: (SLM/MN)
Chuck N2 Flow (SLM/MN): 275 ±25
Chuck spin speed (RPM):
During process step: 1000 ±100
Clean process step DI: 1000 ±100
Clean process step N2: 2000 ±100
Chuck pin, P/N: 2006830
ECO Pin, P/N: 2010343
ECO Motor, P/N: 2006775
Pump:
Return: Nippon pillar (Bellow pump)
Supply: Nippon pillar (Bellow pump with accumulator)
Suck back valve:
Filter
Chuck motor hauser
63A Line amperage
400 LPM Glass flow MFM Flow warm / Fault
Frequency: 50 Hz
Does not include:
Wafer defect system: Glass
Chemical filter
Touch screen monitor
Power supply: 200-208 V, 4 W, 3 Phase.
SEZ/LAM RESEARCH RST 201は、最新の製造プロセスの厳しい要件を満たすように設計されたエッチャー/アッシャー装置です。これは、さまざまな半導体アプリケーションで優れたプロセス制御と品質保証を提供するように設計されています。高速熱処理（RTP）技術を採用し、様々な材料を素早く正確にエッチングまたはプレート化します。その完全にコンピュータ化されたコントロールユニットと精密モーションコントロールは、迅速かつ簡単なセットアップを可能にすると同時に、一貫した信頼性の高い結果を提供します。また、軽負荷ロックチャンバーを備え、最適なサンプル保護と再現性を確保します。SEZ RST 201は、湿式と乾式の両方で高精度のエッチングとアッシングが可能です。独自の物理設計とRTP技術により、最高の精度と最速の処理時間を実現します。さらに、このツールの汎用性の高い加工チャンバは、プロセス精度を損なうことなく、さまざまなサンプルサイズと形状を可能にします。LAM RESEARCH RST 201は、LAM独自のプロセスレシピを活用して最適なパフォーマンスを実現するために設計されています。RST 201は、あらゆる危険な状況からユーザーを保護し、ワークスペースの安全性を最大化するために、さまざまな安全機能を備えて設計されています。このチャンバーは、労働者の安全を確保するために統合された安全インターロックを備えており、この資産は、チャンバーの状態を監視し、安全でない条件を抑制するための行動をとる自動安全システムで設計されています。さらに、このモデルは耐腐食性材料で構成されており、高温および汚染物質に耐えるように設計されています。SEZ/LAM RESEARCH RST 201には、さまざまな高度なプロセスモニタリングとデータ記録機能が搭載されています。専用のコンピュータとソフトウェアパッケージにより、オペレータはリアルタイムでプロセスを監視し、機器をリモートで制御できます。さらに、包括的なトレーサビリティのための自動レシピ制御とプロセスログが含まれています。これは、再現性と一貫したパフォーマンスを確保するのに役立ちます。全体として、SEZ RST 201は非常に信頼性が高く正確なエッチャー/アッシャーシステムで、さまざまな半導体アプリケーションに最適です。迅速かつ正確なエッチング、めっき、アッシング処理を提供し、安全性と再現性を確保するためにさまざまな機能を備えて設計されています。その高品質な構造と最先端のプログラミングは、長年の使用に耐えるように構築されており、長期的なパフォーマンス、生産性、コスト削減を提供します。
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