中古 SEZ / LAM RESEARCH DV-38F #9022268 を販売中
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ID: 9022268
System, parts machine
Position 1: LD, ULD Ports
Robot (Transfer unit): RBT (RS-8240)
Ionizer: Controller model 5024
Position 2: Buffer station
Robot (Transfer unit): Dual ECO Gripper left/right
Robot arm: Al anodized
Ionizer: AeroBar model 5285 (e)
Horiba HF monitor CM-210
Position 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9: PMR1-PMR4, PML1-PML3
Robot (Transfer unit): Rear machine handling - (Twin ECO gripper)
Chamber material: PP
Chamber shape: Ring type
Chamber chuck material: PVDF / PETP / Stainless steel
Robot arm: PVDF (Pins), PETP (Assembly)
Chamber lower section: PP
Chemical supply piping: PFA
Drain piping: PVDF
Chamber cleaning: DIW
Ionizer: QuadBar 4630-DS
ABB Protronic 500 Temp controller: in-line heater controller
Position 10: PML4
Robot (Transfer unit): Rear machine handling - (Twin ECO gripper)
Chamber material: PP
Chamber shape: Ring type
Chamber chuck material: PVDF / PETP / Stainless steel
Robot arm: PVDF (Pins), PETP (Assembly)
Chamber lower section: PP
Chemical supply piping: PFA
Drain piping: PVDF
Chamber cleaning: DIW
Trebor 110R Pump
Entegris 0.03um Filter
Quickchange disposable filter QCDYATMTF Housing
Ionizer: QuadBar 4630-DS
Position 11: CHC1L
Chamber material: PP
Chamber chuck material: PVDF / PETP / Stainless steel
Robot arm: PVDF (Pins), PETP (Assembly)
Chemical supply piping: PFA
Drain piping: PVDF
Siemens heater
Almatec chemical drain pump
Trebor 110R Pump
Entegris 0.03um Filter
Quickchange disposable filter QCDYATMTF Housing
Levitronix BPS-3 process supply pump
Position 12: CHC1L
Chamber material: PP
Chamber chuck material: PVDF / PETP / Stainless steel
Robot arm: PVDF (Pins), PETP (Assembly)
Chemical supply piping: PFA
Drain piping: PVDF
Siemens heater
Almatec chemical drain pump
Levitronix BPS-3 process supply pump
Position 13:
Chamber chuck material: Chuck drive unit Al - anodized
Megasonic: Honda-Ultrasonic flow meter USF100A type
230 VAC, 1 P+N, 50/60 Hz
Max current: 2 A
Breaking capacity: 10,000 AIC
Does not include chemical supply module.
SEZ/LAM RESEARCH DV-38Fは、半導体加工に利用可能な最も先進的なプラズマエッチング/アッシャーの1つです。各種材料の成膜、エッチング、平面化に使用可能な低温・低消費電力・高性能エッチャー/アッシャー装置です。このシステムは汎用性と信頼性に優れ、正確なプラズマ制御と蒸着速度の最適化を可能にします。ユニットは、チャンバー、ガスボックス、電源、コントローラ、ろ過機で構成されています。このチャンバーは最大6つのウェーハを保持するように設計されており、複数のウェーハを一度に処理することができます。また、温度を一定に保つ断熱カバーを備えています。ガスボックスは、エッチングや蒸着に必要な反応性ガスを含む、ウェーハの処理に必要なガスを供給します。この電源は、イオン爆撃エネルギーを正確に制御できる高周波プラズマを生成するために使用されます。コントローラは、資産全体からデータを収集し、最適なプラズマエッチングと蒸着のためにガスの流れと電源設定を調整します。最後に、ろ過モデルは排気ガスをろ過し、きれいな操作を保障します。SEZ DV-38Fは、エッチングおよび成膜のための正確なプロセス制御、ならびに多種多様なカスタマイズおよびプロセス最適化オプションを提供します。平面構造と立体構造の両方を処理することができ、複数のウエハにわたって高い均一性を発揮します。この装置は、低温要件と低消費電力のさまざまな材料に適しています。さらに、LAM RESEARCH DV-38Fは、リモートアクセスと自己診断を備えたユーザーフレンドリーなインターフェイスを備えており、簡単なセットアップと継続的な監視を可能にします。システムには、プロセス自体のリアルタイムデータを提供するインスタントフィードバックユニットもあります。したがって、DV-38Fは信頼性と費用対効果の高いエッチャー/アッシャーマシンを探している任意の半導体製造や研究施設のための完璧なソリューションです。
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