中古 SEZ / LAM RESEARCH DV-34 #9233096 を販売中

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ID: 9233096
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2007
Single wafer processing system Particle, polymer, & residue removal Wafers Wafer type: Standard Wafer surface treatment Cassette interfaces (25) Wafers Wafer robot (dual arm): BROOKS DBM-2406 V Robot controller: BROOKS EDC-2400 Dual ceramic end effector End effector size: 12 Options: OHT (Over Head Transfer) Light curtain Ionizer: 5285e / 4630 No open cassette adapter No wafer protrusion sensor (200mm) No carrier ID reader (RFID) No AGV Process modules: 4 / 8 Chambers (L / R) 4 chambers PSL-1 & PSL-2 (Left side): Medium-1 arm (Standard): Chemical used Medium-2 arm (Option): Chemical used DIW Arm Chuck (ADV pin) Spindle & elevating units PM I/O & Safety Box No active jet nozzle PSR-1 & PSR-2 (Right side): Medium-1 arm (Standard): Chemical used Medium-2 arm (Option): Chemical used DIW Arm Chuck (ADV pin) Spindle & elevating units PM I/O & Safety box No active jet nozzle Liquid / Chem supply cabinets (CHC1 / CHC2): CHC1: (Standard & Dual tank) Tank A: Medium REZI38 Mix ratio / Temperature 25°C Medium fill port, type: Auto fill Medium paddle wheel DIW Fill port, type: Auto fill DIW Paddle wheel Medium in-line filtration system Sampling port Buffer tank Suckback valves ULTRASONIC Flow meter Tank B: Used for chemical Medium REZI38 Mix ratio / Temperature 25°C Medium fill port, type: Auto fill Medium paddle wheel DIW Fill port, type: Auto fill DIW Paddle wheel Medium in-line filtration system Sampling port Buffer tank Suckback valves ULTRASONIC Flow meter Dual in-line heater & cooler No DI/O3 line Process pump No booster pump Recirculation pump Drain pump CHC2: System standard: (8) Chambers System option: (4) Chambers Tank A: Medium paddle wheel DIW Paddle wheel No medium in-line filtration system Sampling port No buffer tank Suckback valves ULTRASONIC Flow meter Tank B: Medium paddle wheel DIW paddle wheel No medium in-line filtration system Sampling port No buffer tank Suckback valves ULTRASONIC Flow-meter Dual in-line heater & cooler No DI/O3 line Process pump No booster pump installed Recirculation pump Drain pump CDS I/O & safety box Separate drain Chemical supply: Med-1 Pre mix Med-2 Pre mix DIW Option: HORIBA Chemical analyzer Safety: Earthquake protection FM 4910 Compliant material No main unit drip pan No drip pan leak detection Host control: SECS II (HSMS) No SECS II (RS232) User interface: Status lamp (R/Y/B/G) Sound module Front & back side UI (touch+keyboard) Options: Wafer handling robot display (CCD / Monitor) Process chamber display No dedicated backing pump No XRD module No ozone module Transformer: 30 kVA Transformer CE compliant (Input 208 Y) No transformer CE compliant with GFI (Input 208 Y) UPS No entire system (30 kVA): In 400 VAC / Out 400 VAC No control PC only (2 kVA): In 230 VAC / Out 230 VAC No pre-etch thickness No post-etch thickness No target uniformity of etch No backside surface conditioning No rough finish No polished finish No front-side etch No back-side etch No backside etch & bevel clean No oxide thinning / Removal No nitride thinning / Removal No polysilicon thinning / Removal No bevel clean No undercut Missing parts: (2) ECO Tune motors (8) Dispenser motors (2) Brake pin cylinders (2) Dispenser nozzles (2) VALVlE SAM-3250-NZD401FFI(12) Drain pump Filter Power supply: 208 VAC, 20 kVA Power Distribution Box (PDB) CE Color code No UL color code 2007 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH DV-34は、最も効率的で信頼性の高い基板処理を提供する高性能エッチャー/アッシャーです。その高度な機能と優れた精度で、このツールは、スパッタリングや陽極酸化から除去やリソグラフィに抵抗するまで、さまざまなアプリケーションに最適です。エッチャー/アッシャーガス供給装置は、基板の損傷を最小限に抑えながらスループットを最大化するように設計されています。また、ガスフローとプロセスパラメータを正確に制御し、一貫した結果を提供します。エッチャー/アッシャーの回転ベースプレートは、8インチまでのすべての基板の高速スピン&ゴー処理を可能にします。それは調節可能な圧力および流れが付いている普遍的なドライブシステムを特色にし、異なった基質およびプロセスを収容します。さらに、ガスデリバリーユニットは必要なプロセスパラメータに合わせて調整可能で、エッチングやアッシング時の精密な制御が可能です。それはまた装置および基質が上の状態に残ることを確かめるために上下にスケールするとき部屋の保護が装備されています。ソフトウェア側では、SEZ DV-34エッチャー/アッシャーは、高度なプロセス最適化と監視のための柔軟な制御マシンを持っています。それはガスの流れおよび部屋の状態の実時間フィードバック、また警報通知、自動タイムアウトおよびリモート・コントロール機能を提供します。ユーザーインターフェイスは非常に直感的で使いやすく、簡単なプログラミングとプロセス制御を提供します。これにより、LAM RESEARCH DV-34は、さまざまなアプリケーションに対応する信頼性の高い汎用性の高いツールとなります。高い均一性、再現性、信頼性により、DV-34エッチャー/アッシャーは半導体の研究と生産に最適です。最大200ミクロンの精度でウェットエッチング、ドライエッチング、アッシングを行うことができます。その低消費電力とツールレベルの診断により、ハイスループット生産環境にとって魅力的な選択肢となります。また、柔軟性と使いやすさにより、高度な研究にも最適です。
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