中古 SEZ / LAM RESEARCH 300 #9211251 を販売中

SEZ / LAM RESEARCH 300
ID: 9211251
Single wafer etcher.
SEZ/LAM RESEARCH 300はトップオブラインで妥協のないドライエッチャー(別名アッシャー)です。精度とスピードのために構築され、金属や絶縁材料の高精度、高速エッチングを様々な基板上で行うことができます。この最上位モデルは、ほとんどの金属および絶縁材料のフルウェーハサイズ(最大12インチ)の高スループット処理用に設計されています。このシステムは、プロセスの一貫性と再現性のために設計されています。SEZ 300には、リアルタイムプロセスパラメータ監視機能を備えた高度な制御コンソールが付属しています。また、自動化と記録機能のためのさまざまなオプションがあり、時間と時間の比較を行うのに役立ちます。また、ユーザーは独自のエッチングプロセスに適用するための独自のレシピを設計することができます。SEZ/LAMLAM RESEARCH 300の心臓部は、シリコーン、プラスチック、セラミックスの先進的な組み合わせである密閉されたピッチセット外装コーティングであり、ユニットにほこりや汚れを含まないように設計されています。エッチャーは、小さなプラズマ源からプロセス領域への移行を最適化したプラズマチャンバーを備えており、エッチング効率と有効性を最大化しています。300はまた真空連結された安全ドアが付いている冷壁管の基質のローディングシステムおよび封じられた低粒子の処理環境と来ます。プロセス部屋は顧客の必要性に従ってさまざまなエッチング率および圧力レベルに合うように人間工学的に設計されています。シングルウエハとバッチサイズの基板の両方で使用できるように設計されています。チャンバーは非常にアクティブで、スループットと再現性を向上させるために数秒でロードおよびアンロードすることができます。SEZ/LAM RESEARCH 300は、エッチャーとしてステップエッチングやリアクティブイオンエッチングなどの戦略を提供しています。SEZ 300は、エッチング機能を補完するため、レイヤリング、平面化、スタッディング、バックラップなどの追加サービスも提供しています。また、LAM RESEARCH 300は、様々な材料に最適な条件のために、堆積、応力、速度、温度、および表面粗さを調整するためのさまざまなプロセスパラメータを備えています。結論として、300は、ダウンタイムを最小限に抑えた高スループット処理用に設計された最高レベルのエッチャー/アッシャーです。ほとんどの金属や絶縁材の精密エッチング用に設計された信頼性が高く、精密で再現性の高いツールです。その高度な機能、オートメーション機能、人間工学に基づいた設計により、最も要求の厳しいアプリケーションに最適なツールです。
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