中古 SEZ / LAM RESEARCH 223 #293760301 を販売中

SEZ/LAM RESEARCH 223エッチャー/アッシャーは、ほぼすべての金属および誘電体材料の一貫した低コストのエッチングおよびアッシングを実現する高度なドライプロセスエッチングソリューションです。金属、誘電体、複合材料のエッチング、ポリマー系材料のアッシングなど、ほとんどの薄膜加工要件を満たすことができるオールインワンソリューションです。この装置は、信頼性の高い結果を非常にコスト効率の高い価格で提供することにより、実績のあるプロセス機能の長い歴史を利用しています。このシステムは、RF電源とエッチングチャンバーの2つの主要コンポーネントで構成されています。RF電源は、エッチングチャンバー内の電界を生成するための高電圧、高周波入力を提供します。この電界は、エッチング中にサンプル材料を個々の元素成分に分解する責任があります。エッチングチャンバー自体は自己完結型で、真空タイトワークエリア、熱制御、ガス供給、クォーツライニングチャンバー壁、エッチングおよびアッシングプロセスを監視するためのプロセッサで構成されています。SEZ 223エッチャー/アッシャーは、幅広い材料に一貫したエッチングおよびアッシング結果を提供します。銅やアルミニウムなどの金属、セラミックスやポリイミドなどの誘電体、フォトレジスタなどの複合材料までエッチングすることができます。また、フォトリソグラフィに使用するポリマー系材料などのアッシング材料にも信頼性の高い結果が得られます。また、エッチングおよびアッシング用途において優れた均一性と予測性を実現し、再現性の高い結果を保証します。LAM RESEARCH 223エッチャー/アッシャーは、ほぼすべての金属および誘電材料の低コストで信頼性の高いエッチングおよびアッシングに最適なソリューションです。ユーザーフレンドリーなコントロールとシンプルな操作により、薄膜加工に最適です。素材能力のその印象的な範囲は、このマシンは、ほぼすべてのエッチングまたはアッシングプロセス要件を処理することができることを保証します。その優れた結果と低コストは、これをあらゆるエッチングおよびアッシング用途に理想的なソリューションにします。