中古 SEZ / LAM RESEARCH 101 #293652614 を販売中

SEZ / LAM RESEARCH 101
ID: 293652614
ウェーハサイズ: 4"-6"
Spin etcher, 4"-6" Chamber.
SEZ/LAM RESEARCH 101は、半導体製造プロセスで使用される高精度のウェハレベルエッチャー/アッシャー装置です。このシステムは、3段階のハイスループット、セルフクリーニングエッチャー/アッシャーユニットで、完全に自動化されたウェハカセットからカセットまでのプロセスを備えています。このユニットは、5オングストローム(A)の最小エッチング深度と0。2ミクロンの最小アッシャー深度を生成することができます。このマシンは、人間の相互作用を伴わない、積み重ねられたウェーハと個々のウェーハの両方の正確かつ正確なエッチングとアッシングを可能にします。このツールは、エッチングガスを堆積する前にウェーハをブロードライするガスシャフトを使用しています(保護層エッチングおよび高密度プラズマエッチングに最適です)。アセットは、等方性、ステップ、異方性、選択性、およびディープエッチプロファイルを含む、幅広いエッチングおよびアッシャープロファイルを生成できます。慣性/非慣性エッチング/アッシングを実行するためにも使用できます。このモデルはアップストリーム/ダウンストリームN2パージ装置を使用しており、ユーザーはウェーハへの反応ガスの露出を制御することができます。このシステムにはプログラマブルロジックコントローラ(PLC)が装備されており、リアクタントの温度、圧力、流量などの重要なプロセスパラメータを正確に制御できます。PLCは、最大256個のウェーハレシピのライブラリを格納することもでき、ユーザーの介入なしに素早くロードおよび実行することができます。また、大型LCDタッチスクリーンと直感的なグラフィックインターフェイスを備えており、オペレータはマシンの状態を監視し、ユニットを通過する際に各ウェーハを確認することができます。これにより、高品質で一貫性のあるエッチング/アッシングの結果が複数回にわたって保証されます。このツールは、包括的な診断およびレポート機能も提供します。これは、ユーザーが資産の問題を迅速に分析して特定するのに非常に役立ちます。
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