中古 SAMCO RIE-212iPC #293587431 を販売中

ID: 293587431
ヴィンテージ: 2009
ICP Etcher 2009 vintage.
SAMCO RIE-212iPCは、さまざまな材料に高精度エッチングを提供する先進のリアクティブイオンエッチング(RIE)装置です。マイクロエレクトロメカニカルシステム(MEMS)、半導体デバイス製造、ディスプレイセル製造など、幅広い用途でのマイクロナノ構造の増幅に使用されます。このシステムは、優れたエッチング均一性と精度を持つシリコン、ゲルマニウム、ガリウムヒ素、アルミニウム、ポリマーなどの幅広い材料の高解像度エッチングのための効率的で費用対効果の高いツールです。SAMCO RIE 212 IPCは、エッチングする基板を大量に使用する600mm×500mmのメインチャンバーと、より小型のウェーハやサンプル用の200mm×150mmサイドチャンバーを備えています。作動圧力範囲は50mTorr〜400mTorrで、0。1mTorr以上の極圧を供給するチタンゲッター真空ポンプを内蔵しています。エッチャーの部屋は140 Wの発熱体および0-200°Cの温度較差が付いているステンレス鋼から、成っています。このユニットはまた、エッチング圧力、流量、および時間を設定するためのデジタルホイール制御を備えています。RIE-212iPCは、超高分解能と反復可能な結果をエッチングするための正確なソリューションを提供します。基板の全領域で正確な均一性、残留残留度が低く、誘電エッチングが強化されています。高度なコンピュータマシンを使用して、正確で反復可能な結果を得るためにプログラムできるエッチレシピなど、すべての機能を制御します。また、セキュリティセンサーとリモートコントロールパッドを備えたガス供給ツールも含まれています。RIE 212 IPCは、さまざまな材料や用途のための精密かつ反復可能なエッチングを求める人に最適です。その精度と残留物の低レベルは、優れた研磨と全体的な仕上げを可能にします。また、プログラムや操作も非常に簡単で、精密なエッチングソリューションが必要なラボや研究施設などに最適です。
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