中古 PVA TEPLA / TECHNICS GigaEtch 100e #123201 を販売中
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ID: 123201
ヴィンテージ: 1992
Microwave downstream plasma system
Quartz plasma chamber:
Dome shape
Diameter: 145 mm
Height: 80 mm
Quartz process chamber:
Diameter: 145 mm
Height: 110 mm
Gas supply:
2 channels
Manually operated valves
Power supply: 230 V, Single phase, 50/60 Hz, 5 Amps
1992 vintage.
PVA TEPLA/TECHNICS GigaEtch 100eは、幅広い材料に高精度プラズマエッチングとアッシングを提供するように設計された先進的なエッチャー/アッシャーです。金属、セラミック、ゴム、プラスチックなど様々な素材で、精密で高精度な微細エッチングパターンを作成するのに理想的な方法です。TECHNICS GigaEtch 100eは革新的なプラズマ技術を使用して、比類のない精度でエッチングとアッシングプロセスを作成します。PVA TEPLA GigaEtch 100eには、エッチングおよびアッシングアプリケーション用の高度なプラズマソースが装備されています。これらには、Inductively Coupled Plasma (ICP)ソースとグロー放電ソースが含まれます。両方とも、エッチングおよびアッシングプロセス中に最大限の制御と精度を提供する無線周波数(RF)ソースによって駆動されます。ICPソースでは、圧力、温度、ガスの流れの設定の広い範囲が可能であり、最も困難な材料のエッチングを可能にします。グロー放電源は、他のエッチング装置よりも高いレベルの制御で正確なエッチングを可能にします。GigaEtch 100eには、精度と安全性のための強力な監視装置も装備されています。このシステムを使用すると、イオン種の濃度、エッチング速度、エッチング深度などのエッチングパラメータをリアルタイムで監視できます。PVA TEPLA/TECHNICS GigaEtch 100eは、停電などの緊急時に自動的にデバイスをシャットダウンする内蔵のインターロックユニットを備えています。TECHNICS GigaEtch 100eエッチャー/アッシャーは、ユーザーが作業するためのさまざまなツールと機能を提供します。これらには、さまざまなサイズと形状のエッチングおよびアッシングマスクおよびステンシル、およびプリセット制御アルゴリズムを備えた高度なマルチスライスエッチング装置が含まれます。さらに、GigaEtchal 100eには、ユーザーがプロセスの開始から終了までを監視および制御できるさまざまなソフトウェアパッケージも含まれています。ソフトウェアパッケージを使用すると、ユーザーはこれまでにない精度で複雑な形状を詳細にエッチングするためのカスタムマスクを作成することもできます。全体として、PVA TEPLA GigaEtch 100eは、高精度で安全性の高い精密エッチングを提供するように設計された強力で汎用性の高いエッチングおよびアッシング機です。その高度な機能は、プロセスとツールのその範囲と相まって、信頼性が高く効果的なエッチングツールを探している人に最適です。
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