中古 PVA TEPLA / TECHNICS 400 #9169197 を販売中
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販売された
ID: 9169197
ヴィンテージ: 2003
Plasma cleaners
Process chamber:
Material: Aluminum
Volume: 64 Liters
Chamber door: Aluminum
QUARTZ Inspection window: 100 mm
With ultraviolet and high-frequency radiation protection
Vacuum system:
Process pressure: ~0.2 - 2 mbar
Gas and vacuum piping:
High-grade steel
1/4" SWAGELOK Connections with aluminum KF components
Gas supply: 2 - 4 Separate gas ducts (2) option, metering by mass-flow controller
Venting: Solenoid valve and series throttle valve
Vacuum:
Ultimate pressure: ~0.03 mbar
Evacuation time up to 0.5 mbar: ~0.5 minutes
Vacuum measurement: Capacitive pressure gauge
Measuring range: 0.01 to 10 mbar
Microwave generator:
Regulated MAGNETRON
Frequency: 2.45 GHz
Power output: 0-1000 W
Fault monitoring: Overload protection
Control unit:
Process time
HF Output
Process pressure
Gas flow
Hardware: Centronics printer interface
Silicon keyboard:
Numeric keypad
Cursor block
Softkeys
Special function keys
Connections:
Plug and socket connection: 24V AC Vacuum pump switch-on relay, 1A microfuse
Control connection for external vacuum valve: 24 V AC
Vacuum connection: DN 63 KF
Gas connections:
(2) Process gases, supply pressure: 1 - 3 Bar vent connection
Supply pressure: 0.5 - 1 Bar
Cooling-system exhaust air: Pipe connection 100 mm outside Ø
Process gases:
Oxygen (O2)
Tetrafluoromethane (CF4)
Argon (Ar)
Helium (He)
Nitrogen (N2)
Air
Nitrous oxide (N2O)
Carbon dioxide (CO2)
Main power supply: 230 V, 50 / 60 Hz, Protected by 15 A slow-blow fuse
Power consumption: 2 kW Without pump
2003 vintage.
PVA TEPLA/TECHNICS 400は、回路基板の作成に使用されるエッチング/アッシング装置です。このシステムは、最先端の産業用途に適しており、表面エッチングおよび化学エッチング用途の両方に効率的で信頼性の高いプロセスを提供します。台座、テーブル、エッチングタンク、コントローラーを備えています。電源ユニット、ユニバーサルカウントユニット、エッチング制御機も装備しています。TECHNICS 400には、精密で反復可能なエッチング速度を生成するプラズマアーク技術が搭載されています。この技術は、同じ基板上に複数のエッチング深度を生成するために使用することができます。エッチング速度は、垂直または水平のエッチングパターンを生成するために簡単に調整することもできます。このツールには、特定の種類のエッチングに合わせて調整できる調整可能なプロセス温度も付属しています。PVA TEPLA 400アセットには、大型液晶ディスプレイを備えた直感的なユーザーインターフェイスも備えています。これにより、エッチングプロセスパラメータの容易な監視と調整、およびプロセスステータスの可視化が可能になります。さらに、自動的に塩素ガスの存在を感知し、それに応じてエッチング率を調整する統合塩素発生器を搭載しています。これにより、エッチングプロセス中に最大限の安全性と効率が保証されます。400の装置はまた酸素および一酸化窒素の調整装置、ペンチ、真空ポンプおよび真空の発電機のような異なったエッチングの付属品のホストを含んでいます。これらのアクセサリーは、より正確で正確なエッチング操作を行うために不可欠です。さらに、このシステムには、エッチングプロセスに関するステップバイステップの明確な指示を提供する詳細な操作マニュアルも付属しています。結論として、PVA TEPLA/TECHNICS 400エッチング/アッシングユニットは、産業用およびDo-It-Yourself用の両方に適した強力で信頼性の高い機械です。精密なエッチング速度、簡単なプロセス監視と調整、および精度と信頼性を高めるための大量のエッチングアクセサリーをユーザーに提供します。
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