中古 PVA TEPLA / TECHNICS 300-E #9049959 を販売中

ID: 9049959
Plasma cleaning unit Applications: Photoresist stripping Mask etching Surface cleaning Etching of class and ceramics Etching of SiO2 Si3N4 Si Removal of Polyimid and Passivation layer process chamber Quartz with Kapton cover (3) Separate gas channels Maximum rate per channel: 500 sccm Working pressure: 0.5-1.5 mbar 250 V, 15 A.
PVA TEPLA/TECHNICS 300-Eは、様々な表面仕上げ作業に使用されるエッチャー/アッシャーです。このエッチャー/アッシャーには、さまざまな機能とアプリケーションがあります。TECHNICS 300-Eは、抵抗加熱プロセスを使用して、迅速なエッチングとアッシャー表面を実現します。250°Cまでの温度範囲、± 1°Cまでの温度調整範囲、および30秒までの時間制御範囲に部品を服従させることができます。温度調整の正確さは± 2°Cおよび0。1°C。の増分で調節可能です。このエッチャー/アッシャーは、シングルゾーンの熱処理のために設計されており、垂直モードと水平モードの両方で動作することができます。また、真空タンク設計により、精密なプロセス再現性を実現し、より正確で一貫した結果を得ることができます。このエッチャー/アッシャーには、IC温度コントローラと地上障害装置からなる自動安全システムと、緊急停止スイッチが装備されています。内蔵の冷却システムにより、動作温度制限を超えないため、サンプルを保護できます。PVA TEPLA 300Eは、シングルウェーハ、バッチ、セミバッチなど、さまざまなエッチングおよびアッシング構成を提供します。SiC加熱素子を使用してサンプルを均一に加熱するプロセスチャンバーサイズは200mm(幅)×300mm(長さ)×250mm(奥行き)です。14インチのウェーハ加工も可能です。全体的に、300-Eは効率的で正確な表面仕上げ操作のために設計されたエッチャー/アッシャーです。プロセスチャンバーのサイズ、温度制御、調整可能な時間制御、非常停止スイッチ、IC温度制御など、さまざまな機能を備えています。また、オペレータの特定のニーズを満たすためのさまざまなエッチングおよびアッシング構成も含まれています。
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